Gebraucht MRC 903M #9160487 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
ID: 9160487
Sputtering system
Programmable PLC system
(3) Cathode positions
Load lock
CTI 8 Cryopump
Dual stage mechanical pump
Turbo pump option installed for load lock
ADVANCED ENERGY Digital RF power supply
ADVANCED ENERGY Digital RF matching network
ADVANCED ENERGY Digital DC power supply
MKS Digital MFC.
MRC 903M ist eine Sputteranlage, die entwickelt wurde, um eine gleichmäßige Beschichtung von Oberflächen mit Dünnschichtmaterialien zu gewährleisten. Erstellt von Veeco Instruments, ist das Gerät weit verbreitet bei der Herstellung von Dünnschichtoptiken, der Abscheidung von leitfähigen Materialien auf Glassubstraten und der Herstellung von Lumineszenzfilmen. Dieses System nutzt eine verbesserte Magnetron-Pistolenstruktur, um großflächig und mit sehr geringen Profilunregelmäßigkeiten eine homogene Sputterbeschichtung zu erzeugen. Das Hauptmerkmal von MRC 903 M ist seine Fähigkeit, die Sputterrate, das Magnetfeld, die Ionisationsdichte und die Gleichmäßigkeit des Films zu steuern. Dies wird durch die integrierte Quad-Magnetron-Pistole, das planare Ziel mit größerer Fläche und die fortschrittliche Prozesssteuerungssoftware erreicht. Die Pistole ist so konzipiert, dass sie leicht einstellbar ist, um verschiedene Sputterkonfigurationen aufzunehmen, und enthält integrierte KI-Lernalgorithmen zur Optimierung der Produktionsraten. 903M umfasst eine Reihe integrierter Sicherheitsmerkmale wie eine automatische Abschalteinheit, falls während der Produktion Unregelmäßigkeiten oder Sicherheitsprobleme auftreten. Seine Steuerungsmaschine ermöglicht es dem Benutzer auch, den Ionenfluss, die Zieltemperatur, die Substrattemperatur und die HF-Frequenz für optimierte Leistung einzustellen. Das umfassende Softwarepaket des Tools ermöglicht zudem präzises Uniform Sputtering (USV), das die Produktionseffizienz verbessert und die Gleichmäßigkeit erhöht. Darüber hinaus ist 903 M relativ kompakt im Vergleich zu anderen Systemen seiner Klasse und umfasst eine abnehmbare Zielkammer für einfache Wartung und Reinigung. Die Anlage eignet sich auch für alle Sputterumgebungen, vom kleinen Labor bis zum großen Produktionsgut. Darüber hinaus ist das Modell energieeffizient konzipiert und kann bis zu 40% der gesamten Produktionsenergiekosten einsparen. Insgesamt ist MRC 903M eine vielseitige und zuverlässige Sputterausrüstung, die sich ideal für die Bildung von Dünnschichtmaterialien und optischen Komponenten eignet. Die umfassenden Funktionen und Sicherheitssysteme dieses Systems gewährleisten eine optimale Leistung und verkürzen die Wartungszeiten und sind somit eine bevorzugte Wahl für viele Dünnschichtproduktions- und Forschungsanwendungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor