Gebraucht MRC 943 #9199304 zu verkaufen

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Hersteller
MRC
Modell
943
ID: 9199304
Sputtering system Full RF / DC Sput capabilities (Super switch) MRC RF Etch 3kW RF PS (112-43-000) DC Upgraded to AE 10 kW Master with mini panel included Heater lamps: No load lock (Presently) Gas system upgraded to MKS baratron head, with Ar MFC Independent N2 flow control on gas 2 (2) PLANAR Mag cathodes Inset cathode T-3 Position: KW-Hr run timer Includes: Cryo (8) cold heads Compressors (Air cooled) Cryo lines Mech pump with tool Manuals included.
MRC 943 ist eine Sputterabscheidung, die für die Anwendung von dünnen Filmen verwendet wird. Es ist ein vollautomatisches System, das in der Lage ist, ein- oder mehrschichtige Dünnschichten innerhalb einer Vakuumkammer zu sputtern. 943 ist mit drei Magnetronquellen mit 12 Zoll Durchmesser ausgestattet, die eine Abscheidungsfläche von 24,4 Quadratzoll bieten. Die Kammer kann auf jedem Lauf bis zu 28 Substrate oder 25 Wafer aufnehmen. MRC 943 verfügt über eine integrierte Prozesssteuereinheit, die eine rotierende Magnetronanlage umfasst. Dies ermöglicht das Wachstum gleichmäßiger Filme auf jedem Substrat. Die Maschine verfügt außerdem über ein Haspel-zu-Haspel-Werkzeug, das den Einsatz von kontinuierlichen Sputterzielen ermöglicht und das Abscheiden mehrerer dünner Folien ohne Werkzeugwechsel ermöglicht. Die rotierende Magnetronanlage ermöglicht auch die manuelle Steuerung einzelner Targets, was die Optimierung von Folieneigenschaften wie Dicke und Gleichmäßigkeit ermöglicht. Das Asset umfasst auch Software zur Zielauswahl, Substratheizung und Vorspannung. 943 hat eine Vakuumkammer mit einem Basisdruck von 10-6 Torr und einem dynamischen Druckbereich von 10-3 bis 10-6 Torr. Zusätzlich wird eine 3-stufige Ionenpumpe eingebaut, um ein hohes Vakuum und eine niedrige Hintergrundabscheidung zu gewährleisten. Das Modell umfasst auch eine automatische Substrathandhabung, die es ermöglicht, Substrate automatisch zu be- und entladen, ohne das Vakuum der Kammer zu brechen. Der Substrat Handling Cart ist mit mehreren Hebevorschüben ausgestattet, die eine effiziente Substratverarbeitung von bis zu 30 Wafern auf einmal gewährleisten. Das System ist computergesteuert, mit einer einfach zu bedienenden grafischen Benutzeroberfläche (GUI), die es dem Benutzer ermöglicht, verschiedene Abscheidungsparameter wie Leistung, Ziele und Substrattemperatur anzupassen. Zusätzlich kann das Gerät über RS-232- oder GPIB-Schnittstellen überwacht werden. Insgesamt ist MRC 943 eine vielseitige und leistungsstarke Sputterabscheidungsmaschine für eine Vielzahl von dünnen Filmen. Das offene Kammerdesign und das automatisierte Substrathandling ermöglichen es Anwendern, viele Substrate schnell und effizient zu bearbeiten. Und mit der Flexibilität, Targets und Substrattemperaturen einzustellen, zeigen die hergestellten Folien eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit. 943 ist eine gute Wahl für Universitäten, Forschungseinrichtungen und Industrielabors, die ein zuverlässiges, leistungsstarkes Sputterwerkzeug benötigen.
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