Gebraucht MRC 943 #9227138 zu verkaufen

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Hersteller
MRC
Modell
943
ID: 9227138
Sputtering system Compressor Mech pump System hardware: MRC Load lock assembly CTI CT-8 Cryo pump: Load lock Process chamber (3) SIERRA Scientific planar 5"x15" cathodes (3) Target shielding sets ADVANCED ENERGY MDX-10 DC Power supply: 10 kW MRC Hivac valve With MRS throttle valve assembly (3) MKS MFC MKS 390 Baratron assembly MRC Hydraulic system Etch: ENI OEM-12A RF Generator ENI Matchwork 10 RF Matching unit Rack hardware: GOULD / MODICON PLC Controller GP-303 IG Controller MKS 252 Throttle valve controller MKS 247 MFC Controller: 4 Channels (5) GP-275 Convectrons TCR DC Voltage power supply (MRC Rail bias).
MRC 943 ist ein Sputtergerät, das zum Abscheiden dünner Filme auf einer Substratoberfläche verwendet wird. Es arbeitet, indem es ein Zielmaterial mit hochenergetischen Partikeln bombardiert, um einen kleinen Teil des Ziels zu entfernen und es auf dem Substrat abzuscheiden. Das System umfasst eine Vakuumkammer zur Aufnahme der Sputterquelle und eine Zielkathode, eine Vakuumpumpeinheit zur Aufrechterhaltung einer Niederdruckumgebung, einen Satz von Stromversorgungen zur Steuerung der elektrischen Ströme und einen Prozesstemperaturregler. Das Ziel besteht typischerweise aus einer Vielzahl von Materialien, darunter Metalle, Legierungen, Keramiken und Mineralien. Es wird typischerweise auf eine hohe Temperatur erhitzt, um seine Sputterausbeute zu erhöhen. Die zum Sputtern des Zielmaterials verwendeten hochenergetischen Partikel können entweder aus einer Magnetronquelle oder einer HF-Quelle stammen. Zur Steuerung der Abscheidegeschwindigkeit kann das Verfahren bei einem weiten Bereich von Drücken durchgeführt werden. Die Vakuumumgebung innerhalb der Sputterkammer trägt dazu bei, die Ausbeute an zerstäubtem Material zu maximieren, indem die Anzahl der potentiell auftretenden konkurrierenden Reaktionen begrenzt wird. Der Druck wird typischerweise unter 1 Millitorr, einer Druckmeßeinheit, gehalten. Die Prozesstemperatur kann auch über einen Temperaturregler geregelt werden, wodurch der Sputtervorgang mit wesentlich höherer Geschwindigkeit erfolgen kann. Um die an Substrat und Target angelegten elektrischen Ströme zu steuern, verwendet die Maschine einen Satz von Stromversorgungen. Die Netzteile können so programmiert werden, dass sie entweder konstante oder gepulste Strombetriebsmodi liefern. Im konstanten Modus kann die Stromversorgung einen kontinuierlichen ununterbrochenen elektrischen Strom an das Ziel- und Substratmaterial abgeben, was eine gleichmäßige Abscheidung über das Substrat ermöglicht. Im gepulsten Modus kann die Stromversorgung den elektrischen Strom schnell ein- und ausschalten, was eine stark kontrollierte Abscheidung ermöglicht. 943 ist ein hocheffizientes und präzises Werkzeug zur Abscheidung dünner Filme auf Substraten. Die hohe Sputterausbeute und die präzise Temperatur- und Druckkontrolle machen es zu einem idealen Sputtermittel für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich der Herstellung von Halbleiter- und Festkörperbauelementen, der Mikroelektronik, der Optik und der Produktion von Flachbildschirmen. Mit seinem effizienten Betrieb und der robusten Konstruktion ist MRC 943 ein ideales Modell für zuverlässige und wiederholbare Filmabscheidungen.
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