Gebraucht MRC Eclipse Mark II #293822989 zu verkaufen

Hersteller
MRC
Modell
Eclipse Mark II
ID: 293822989
Wafergröße: 6"
Physical Vapor Deposition (PVD) System, 6" (6) CTI Cryo pumps: Conflat flange 24-hole bolt pattern (2) CTI-8 (4) CTI-8F (2) Pairs of Reactive gas MFC’s Cathode doors on process chambers 3 & 4, 12” Cassette stages No ‘A’ or ‘B’ tower No blowers No argon MFC’s No index wheel No motor No etch chamber door No computer.
MRC Eclipse Mark II ist eine reaktive Sputteranlage, die zur Herstellung dünner Filme aus verschiedenen Materialien auf verschiedenen Substraten verwendet wird. Das System verwendet das Prinzip des Magnetronsputterns, bei dem ein Inertgas mit energiereichen Ionen beschossen wird. Die Ionen sputtern Material von der Kathode, dem Targetmaterial, auf das Substrat ab. Eclipse Mark II verfügt über eine Gleichstrom (DC) Magnetron Sputterquelle, mit einem 8 "festen Target, montiert auf einem 0-90 ° drehbaren Substrathalter. Die Einheit ist in der Lage, bis zu vier Targets gleichzeitig zu zerstäuben, was eine mehrschichtige Dünnschichtabscheidung ermöglicht. Es stehen verschiedene Magnetrons, Gaseinsätze und Verschlusskombinationen zur Verfügung, die eine übereinstimmende Flexibilität und Konfiguration für den gewünschten Prozess des Benutzers ermöglichen. Die 3-Zoll-Durchmesserkammer ist aus thermisch schwachem Dehnungsmaterial aufgebaut und verfügt über eine Pumpmaschine mit einem Basisvakuum von 0,05 mBar. Dieses Vakuumniveau bietet die notwendige Umgebung, damit ultradünne Folienabscheidung und Oberflächentechnik effektiver abgeschlossen werden können. Das Tool ist mit umfassenden Automatisierungssteuerungen ausgestattet, darunter ein 4-Achsen-Servoregler und ein programmierbarer Logikcontroller. Dies ermöglicht eine präzise und effiziente Automatisierung des gesamten Abscheideprozesses. Das Asset ist auch mit einem Offline-Rezepteditor und einer dedizierten Ablagerungssteuerungssoftware kompatibel. Auf diese Weise können Benutzer ihren Prozess einfach konfigurieren und anpassen, um den Anforderungen der einzelnen Anwendungen gerecht zu werden. MRC Eclipse Mark II ist für den Einsatz in F&E und industriellen Anwendungen wie Sputterbeschichtung, Schutzbeschichtungen und fortschrittliche Dünnschichtstrukturen konzipiert. Darüber hinaus kann das Modell für optische oder mechanische Komponenten, Unterhaltungselektronik, Dielektrika und eine Vielzahl anderer industrieller Anwendungen verwendet werden. Eclipse Mark II bietet einen hohen Durchsatz und gleichzeitig genaue und reproduzierbare Abscheidungsprozesse. Letztlich bietet die Ausrüstung eine ausgewogene Kombination aus Einfachheit, Genauigkeit und Effizienz.
Es liegen noch keine Bewertungen vor