Gebraucht MRC Eclipse #9225158 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9225158
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2009
Sputtering system, 8"
Chamber 1: Process: ALSI
Chamber 2: Process: TI
Chamber 3: Process: AL
Sputter chamber 1 / 2 / 3:
Type, 8"
DC Power: AE
Cryo pump: CTI 8F
RF Chamber:
Process: Hard etch
RF Power: AE
Cryo pump: CTI 8F
Main frame:
Robot type, 8"
Alignment
Load lock cryopump: CTI Onboard 8
Compressor:
Type 1: (2) 9600
Type 2: SUZUKI
EBARA A10S Dry pump
System monitor:
Front panel
Remote control
2009 vintage.
MRC Eclipse ist eine fortschrittliche Sputterausrüstung, die von MRC für die präzise Dünnschichtabscheidung entwickelt und hergestellt wurde. Das Multizielsputtersystem ist ein hochproduktives Werkzeug für die Materialforschung, Prozessentwicklung, Serienfertigung und Qualitätskontrolle. Das Gerät verwendet Hochleistungs-Sputtertechnologie, um gleichmäßige dünne Filme auf Substraten verschiedener Größen und Zusammensetzungen abzuscheiden. Eclipse wurde mit verschiedenen innovativen Funktionen entworfen und gebaut, die es ermöglichen, dünne Filme schnell und präzise mit nahezu atomarer Schichtpräzision abzuscheiden. MRC Eclipse ist mit einem vielseitigen Satz von Komponenten ausgestattet, mit denen Benutzer die Maschine nach ihren spezifischen Anforderungen konfigurieren können. Das Tool verwendet eine high-T5 DC-Magnetron-Sputterquelle mit 2, 3 oder 4 Zielfunktionen, eine Ionenquelle zur Steuerung der Arbeitsumgebung und eine optionale Pumpanlage für das Vakuummanagement. Eclipse verfügt auch über einen fortschrittlichen Controller, mit dem Benutzer den Sputterprozess in Echtzeit steuern und überwachen können. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung von Sputterparametern wie Abscheiderate, Gasfluss und Substrattemperatur. MRC Eclipse ist für den Einsatz in einer Reihe von Anwendungen konzipiert, einschließlich Dünnschichtabscheidung für Solarzellen, Displays, Elektronenmikroskopie und vieles mehr. Die fortschrittlichen Funktionen des Modells und die vielfältigen Zielfähigkeiten machen es für die Materialforschung, Prozessentwicklung, Chargenproduktion und Qualitätskontrolle geeignet. Eclipse wurde auch entwickelt, um mit einer Vielzahl von Substraten und Zielmaterialien kompatibel zu sein, so dass es eine ideale Wahl für viele verschiedene Dünnschichtabscheidungsprojekte ist. MRC Eclipse ist eine zuverlässige Sputterausrüstung, die für eine genaue und konsistente Dünnschichtabscheidung ausgelegt ist. Es ist eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen und bietet Anwendern leistungsstarke Sputterfunktionen und eine präzise Dünnschichtabscheidung. Das System ist für eine schnelle und einfache Installation und Bedienung konzipiert, und der fortschrittliche Controller sorgt für präzise und konsistente Sputtervorgänge. Eclipse ist eine ausgezeichnete Wahl für Forscher und Hersteller, die eine zuverlässige und effiziente Sputtereinheit suchen.
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