Gebraucht MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse #9238093 zu verkaufen

MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse ist eine Sputteranlage zur Herstellung von Dünnschichtschichten. Es wird häufig bei der Herstellung von Halbleiter-, Verbindungs- und optischen Dünnfilmen verwendet. MRC Eclipse ist ein einstufiges Source/Substrat-Sputtersystem mit einer beheizten Substratstufe und einem Overhead-Load-Lock für die Probenvorbereitung. MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse-Modell ist mit einer 13,56 MHz, 400 W, Einzelfrequenz, Magnetron-Sputterquelle ausgestattet, die entwickelt ist, um 1-4 cm3/min des seltenen Gases zu strömen, die eine höhere Ziel-Erosionsrate ermöglicht. Die Quelle liefert zwei Sätze von Ausgängen, der erste Impuls sorgt für schnelles Sputtern, was zu einer verstärkten Reinigung des Substrats führt, während der zweite Impuls eine gleichmäßige Abdeckung beibehält und gleichzeitig eine gleichmäßigere Schicht mit weniger Verunreinigungen erzeugt. Eclipse ist für den manuellen oder vollautomatischen Betrieb ausgelegt. Der automatisierte Modus verfügt über eine Computerschnittstelle, die eine einfache Bedienung der Einheit ermöglicht und es Benutzern ermöglicht, ihre eigenen Rezepte zu speichern und zu laden. Der Computer ist auch in der Lage, die Maschinenparameter wie Druck und die Strömungsgeschwindigkeit des seltenen Gases zu überwachen, was eine genaue Steuerung der Sputterparameter ermöglicht. MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse hat einen aktiven Substrattemperaturbereich von -150 bis + 600 ° C, der eine breite Palette von Dünnschichtabscheidungsanwendungen wie Oxidation und Glühen verschiedener Materialien ermöglicht. Der aktive Substratpositionierer ermöglicht auch Probenbelastung von einem Positionierer zum anderen, so dass es einfach ist, Proben zwischen Prozessabläufen zu wechseln. MRC Eclipse verfügt auch über eine Vielzahl von Funktionen, die die Wiederholbarkeit der Prozesse aufrechterhalten und Ausfallzeiten reduzieren sollen. Es verfügt über einen automatisierten Kammerreinigungszyklus und wurde entwickelt, um den Aufbau von Sputtermaterial innerhalb der Kammer zu minimieren. Es verfügt auch über einen automatisierten Quarzkristallmonitor in situ, der eine genaue Überwachung der Dünnschichtverdickung und -qualität ermöglicht. All diese Funktionen machen MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse zu einem leistungsstarken Sputterwerkzeug, das den Anforderungen einer Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsanwendungen gerecht wird. Die Wiederholbarkeit, der hohe Temperaturbereich, der automatisierte Betrieb und die hohe Sputterrate ermöglichen eine zuverlässige und kostengünstige Abscheidung.