Gebraucht MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse #9238094 zu verkaufen

MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse
ID: 9238094
Wafergröße: 8"
Sputtering system, 8".
MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse ist eine vielseitige Sputterausrüstung, die für eine Vielzahl von Dünnschichtanwendungen verwendet wird, einschließlich der Herstellung von Halbleitern und dielektrischen Bauelementen. Es verfügt über ein einzigartiges Dual-Gun-Design, das zwei unabhängig gesteuerte Elektronenkanonen in derselben Sputterkammer verwendet, um eine hochpräzise und sehr reproduzierbare Abscheidung mehrerer Folienmaterialien in einem Prozesslauf zu ermöglichen. Die Elektronenkanonen befinden sich an gegenüberliegenden Enden der Kammer und die Leistungsmerkmale von MRC Eclipse können mit zwei integrierten Stromversorgungen genau gesteuert werden, die eine Feinabstimmung der Abscheidungsrate jedes Zielmaterials und Abscheidungsratenverhältnisse zwischen Materialschichten ermöglichen. MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse verfügt auch über ein präzises Abscheidesteuerungssystem mit einer patentierten linearen Bewegungszuführeinheit, die eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit über das Substrat für ein- oder mehrschichtige Anwendungen bietet. Die Maschine umfasst mehrere Filmabscheidungstechnologien, wie Magnetron-Sputtern, Deuterium-Plasmaabscheidung bei niedriger Temperatur und ermöglicht auch eine hochleistungspulsartige Plasmaabscheidung mit einem hochauflösenden rotierenden Target. Das rotierende Target ermöglicht eine verbesserte Gleichmäßigkeit der Folie auf großflächigen Substraten, während die Plasmapulsfrequenz höhere Abscheideraten und verbesserte Prozeßwiederholbarkeit bewirkt. Darüber hinaus bietet eine halbkugelförmige Quellenoption eine zusätzliche Schicht Vielseitigkeit für Eclipses Fähigkeiten, die substratspezifische benutzerdefinierte Sputterprozesse ermöglicht. Die Vielseitigkeit der MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse wird durch ihre Fähigkeit, eine breite Palette von Substraten, Zielen und Ausrüstungskomponenten unterzubringen, sowie ihre Kompatibilität mit Prozesswerkzeugen von großen Dünnschichtausrüstern weiter verbessert. MRC Eclipse bietet auch eine breite Palette von Automatisierungsfunktionen für verbesserte Prozesssicherheit und -steuerung. Die Prozessoberfläche umfasst manuelle und programmierbare Modi, vollständige Prozessautomatisierung durch Skripting und eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche für eine einfache Rezepteinrichtung und -steuerung. Mit all seinen Funktionen kombiniert, bietet MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse beispiellose Sputtermöglichkeiten für hochpräzise Geräteherstellung.
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