Gebraucht MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star #9108489 zu verkaufen

MRC (früher bekannt als TEL) MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star ist eine robuste Sputterausrüstung, die Inertgas verwendet, um Atome aus einem Zielmaterial zu dislozieren und die Oberfläche eines Substrats zu beschichten, indem sie sich darauf ablagert. Zu den geringen Energieeigenschaften des Systems gehören eine Sputterquelle mit variabler Größe (Hoch- oder Niedrigenergie) und eine kompakte Kammer mit einem eng integrierten Design für die Prozesssteuerung. MRC Eclipse Star hat einen Leistungsbereich von 1-15 kW und eine maximale Sputterrate von bis zu 3 nm/min. Es ist mit zwei Endstation-Betriebsmodi ausgestattet: Inline und Edge Station. Der Inline-Modus unterstützt herkömmliche Sputterprozesse, wobei die Sputterquelle von der Waferoberfläche weggelegt wird. Der Randstationsmodus hingegen bringt die Sputterquelle näher an die Waferoberfläche heran, um eine randdefinierte Oxidschicht zu erzeugen. Diese Sputtereinheit bietet sowohl thermische als auch HF-Anwendungsunterstützung und bietet sowohl Nieder- als auch Hochenergiebeschichtungen. Die Electron Cyclotron Resonance (ECR) und Power Feed Forward (PFF) ermöglichen eine Vollfeldplasmasteuerung mit erweiterten Prozesssteuerungs- und Rückkopplungsalgorithmen, die in die Maschine integriert sind. Zusätzlich wird die Leistung durch den Einsatz von PowerSource-Modulen geregelt, die HF-Signale bis 500 kHz einstellen können. TEL Eclipse Star kann mit mehreren Gasquellen, bis zu vier Massenspektrometern und einer maximalen Wafergröße von 200mm arbeiten. Die vorinstallierte Schaltklinke verhindert Überdrehungen und der SCARA-Roboter bietet schnellere Lade-, Entlade- und Wafer-Handlinggeschwindigkeiten. Das erweiterte Feature-Set des Werkzeugs enthält auch eine Multi-Target-Sputterkammer, mit der mehrere verschiedene Materialien auf einem einzelnen Substrat abgeschieden werden können. Eclipse Star ist auch in der Lage, in-situ Diagnose und Asset-Monitoring. Seine erweiterte Diagnosefunktion reicht über die visuelle Inspektion hinaus, wobei ein Extraktionsanschluss für die chemische Analyse der Schicht in situ abgelagert wird. Diese Eigenschaften ermöglichen TOKYO ELECTRON Eclipse Star Modell eine hohe Genauigkeit und wiederholbare, zuverlässige und 100% wiederholbare Ergebnisse zu liefern. Die Ausrüstung ist auch in der Lage, erweiterte Fähigkeiten wie Closed-Loop-Prozesssteuerung, schnelle Wafer-Endpunkt-Erkennung, präzise Ätzsteuerung und vollautomatisierten Betrieb.