Gebraucht NEXX SYSTEMS Nimbus XP #9372726 zu verkaufen

ID: 9372726
PVD Sputtering system With NEXX 003 Control panel Power supply: 208 V, 50/60 Hz, 150 A, 3 Phase.
NEXX SYSTEMS Nimbus XP Sputtering Equipment ist eine integrierte Sputterabscheidungsplattform für die Forschung und Entwicklung von Dünnschichtprozessen. Das System verwendet eine Vakuumkammer und eine Hochenergie-Plasmaquelle, um eine Reihe von Materialien auf einem in der Vakuumkammer angeordneten Substrat abzuscheiden. Dies ermöglicht es dem Anwender, Dünnschichtschichten unterschiedlicher Dicke und Gleichmäßigkeit sowie Abscheideraten für eine Reihe von Materialien, einschließlich Metallen, Halbleitern und Isolatoren, aufzubringen. Das Gerät ist sowohl für kleinflächige Proben als auch für produktionsgroße Wafer bis 8 "geeignet. Nimbus XP verwendet einen In-Vakuum-Drehvorschub- und Hubmechanismus, um die Gleichmäßigkeit größerer abgelegter Bereiche zu gewährleisten. Dieser Mechanismus wurde mit einem geneigten Boden ausgelegt, um den Verschmutzungsaufbau zu minimieren. Zusätzlich führt die magnetische Schwebebahn des Drehtellers zu geringer Reibung und sehr gleichmäßigen Abscheideraten. Die Maschine nutzt auch eine In-Vakuum-Übertragung, die das Einbringen von Proben in die Kammer ohne Einbringen von Verunreinigungen ermöglicht. Der Controller nutzt ein intuitives, menügesteuertes Design und ist mit allen notwendigen Softwaremodulen für den automatisierten Betrieb integriert. Dazu gehören Software zur Zielflächenoptimierung, Partikelflussmessung, Datenerfassung, Prozesssteuerung und Parameterverfolgung. Für die manuelle Bedienung verfügt der Controller über ein Touchscreen-LCD-Display mit mikroprozessorgesteuerten Drehschaltern und Menüpunkten. Zusätzlich weist das Werkzeug zwei getrennte verriegelte Plasmaquellen auf, von denen jede genau auf die richtigen Substratabscheidungsparameter abgestimmt werden kann. Die Performance der Anlage wird durch ein ausgeklügeltes Vakuum- und In-Chamber-Überwachungsmodell genau überwacht. Dazu gehören Temperatur, Durchfluss und Gasarten, um optimale Prozessbedingungen zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine eingebaute Ionenquelle und kann den Fluss positiver Ionen in der Vakuumkammer messen. So können Anwender den Prozess in der Kammer schnell und genau überwachen. Um Dünnschichtabscheidungsprozesse genau zu reproduzieren, weist das System auch eine Reihe von Sicherheitsverriegelungen auf. Dazu gehören automatisierte Bodenfehlerverriegelungen, Schrankinnenausluftlüftung sowie eine feste Schutzabschirmung. Darüber hinaus verfügt das Gerät über einen integrierten Energiesparmodus, mit dem Benutzer bis zu 50% ihrer Energiekosten sparen können. Insgesamt ist NEXX SYSTEMS Nimbus XP Sputtering Machine eine hochmoderne Plattform, die Anwendern eine integrierte Lösung zur präzisen und gleichmäßigen Abscheidung von Dünnschichten auf Substraten bietet. Mit einer Vielzahl von Sicherheitsfunktionen, einem sehr intuitiven Controller und automatisierten Bedienungsfunktionen ist Nimbus XP die perfekte Lösung für eine genaue und kontrollierte Dünnschichtabscheidung.
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