Gebraucht NRC / VARIAN 3117 #151541 zu verkaufen
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ID: 151541
Thermal evaporator
18 x 24" Pyrex bell jar on 25" stainless baseplate
VARIAN cryopump
2kVA filament transformer
Control and tap switch
Manual valves and ion/tc gauge.
NRC/VARIAN 3117 ist eine Niederdruck-Gleichstrom (DC) -Magnetronsputteranlage, die für den Einsatz in hochpräzisen Abscheidungsprozessen entwickelt wurde. Das Sputtersystem verwendet einen Zwei-Taschen-Magnetron-Sputterkopf, um hochwertige Beschichtungen auf einer Vielzahl von Substratmaterialien abzuscheiden. Die Sputtereinheit enthält eine hochfrequente elektrische Maschine, die die Abscheideausbeute und Gleichmäßigkeit maximiert. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien abzuscheiden, von Metallen bis zu Halbleitern und Isolatoren. NRC 3117 enthält auch ein Vakuumwerkzeug, um eine nahezu perfekt saubere Umgebung zu schaffen, in der gesputtert werden kann, sowie eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, um sicherzustellen, dass das Asset den staatlichen Standards entspricht. Das Vakuum-Modell verfügt über eine siebenstufige mechanische Turbopumpe, eine Membranpumpe und ein Pirani-Messgerät zur Evakuierung von Proben bis zu Basisdrücken von etwa 1,3 x 10-6 mBar. Die Ausrüstung ist auch mit einer Kühlfalle ausgestattet, um die Ausgasung zu reduzieren, einen Gasabscheider, um sicherzustellen, dass abgeschiedenes Metall reines zerstäubtes Metall ist, und ein Ionisationsmessgerät, um das Niveau der Luftverschmutzung zu messen. Der Sputterkopf kann mit einer Vielzahl von Quellen beladen werden, von Metall bis Isolator. Die Netzteile in VARIAN 3117 können für DC-Magnetronsputtern und HF- oder pulsierende DC-Sputterabscheidung konfiguriert werden. Das HF-Netzteil ist für Hochleistungslasten und schnelle Frequenzumschaltung ausgelegt und ermöglicht eine präzise Steuerung der Abscheiderate. Es ist in der Lage, einstellbare HF-Leistung von 0 bis 1,2 kW und einstellbare Pulsbreite von 0 bis 4 μ S. Der Kopf ist für schnelles Ansprechen und hohen Durchsatz ausgelegt, und die Prozessbedingungen können für ein optimales Filmwachstum angepasst werden. 3117 bietet eine breite Palette von Temperaturregelung, von umgebend bis 930 ° C (1706 ° F). Die Hochtemperatur-Tiegelkonstruktion verhindert Verschmutzungen des Substrats durch thermische Gradienten. NRC/VARIAN 3117 ist auch mit fortschrittlicher Software ausgestattet, die Rückkopplungssteuerung und mikroprozessorgestützten Betrieb ermöglicht. Die benutzerfreundliche Oberfläche ermöglicht die Echtzeitüberwachung, Protokollierung und Steuerung der Sputter- und Zusatzprozesse. Insgesamt ist NRC 3117 ein fortschrittliches, vielseitiges Sputtersystem, das in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden kann. Die benutzerfreundliche Oberfläche und die breite Palette an Steuerparametern machen es ideal für hochpräzise Abscheideprozesse.
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