Gebraucht NRC / VARIAN 3117 #19408 zu verkaufen
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ID: 19408
E-Beam evaporator
18" dia x 30" tall Pyrex bell jar
Implosion cage on 20" dia SS baseplate
With electromechanical hoist
TEMESCAL TIH270 E-Beam gun
ES6A E-beam power supply, 6 kW
Sloan Omni III Quartz crystal deposition monitor
Ion and 2-position thermocouple gauge
Pumping system:
NRC / VARIAN VHS6 Diffusion pump
Rated: 2400 L/s
NRC 316 Series LN2 trap
Electro pneumatic valve with sequencer
Mechanical roughing pump: 17 CFM.
NRC/VARIAN 3117 Sputteranlage ist ein umfassendes Abscheidungssystem zur physikalischen Aufdampfung von metallischen und isolierenden Materialschichten. Es ist für eine Vielzahl von Anwendungen konzipiert, einschließlich Beschichtungen für mikroelektronische und optoelektronische Bauelemente, Dünnschichttransistoren, Magnete und andere fortschrittliche Strukturen. Mit seinem Dual-Gun-Design ist dieses Gerät in der Lage, eine gleichmäßige und glatte Abscheidung über große Bereiche zu erzeugen. NRC 3117 verfügt über eine fortschrittliche Bogenunterdrückungstechnologie, die zu hervorragender Prozesswiederholbarkeit und Zuverlässigkeit führt. Diese Technologie verfügt über einen einheitlichen Ionenemissionskegel mit einer schmalen Schicht elektrischer Feldlinien, um das Auftreten von Lichtbögen und Funken zu verhindern. Die vier getrennten Zielpositionen, fortschrittliche HF-Netzteile und -Regler sowie integrierte Drehbewegungs- und Kühlfunktionen ermöglichen es, statistisch einheitliche Schichten auf großen Flächen effizient abzuscheiden. VARIAN 3117 ist mit nahezu allen Materialtypen kompatibel, einschließlich Metallen, Halbleitern, Isolatoren und High-K-Dielektrika. Der modulare Aufbau ermöglicht eine Vielzahl von Substratgrößen und -formen und ermöglicht so die manuelle oder automatisierte Steuerung von Substratform und -position für optimale Ergebnisse. Die wiederladbaren Kassetten und der Bordreinraum ermöglichen eine schnelle Werkzeugumkonfiguration und eine enge Prozesskontrolle. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine ausgeklügelte Prozesssteuerung mit elektronischer Rotationssteuerung (ECR), die eine präzise Drehung der Quellwafer- und Bühnenpositionen ermöglicht. Diese Technologie erzeugt einheitliche Schichten und Argon-Ionenstrahlreinigung für spezifisches Metall, Kohlenstoff und andere Elemente. Das Tool bietet auch fortschrittliche Prozessüberwachungs- und Feedback-Systeme für automatisierte Abscheide- und Reinigungszyklen sowie für eine verbesserte Prozesswiederholbarkeit. Seine Rezirkulationsanlage und sein bidirektionales Leitblechmodell verhindern die Kontamination des abgehenden Flusses und den Eintritt von Partikeln während des Abscheidungsprozesses. 3117 Sputteranlagen sind eine ideale Lösung für neue Technologien, die eine hochpräzise, hochdurchsatzreiche Abscheidung von sauberen und einheitlichen Metall- oder dielektrischen Schichten erfordern. Seine fortschrittlichen produktivitätsorientierten Funktionen machen es zu einer attraktiven Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen, von fortschrittlicher Mikroelektronik bis hin zu medizinischen Geräten.
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