Gebraucht NRC / VARIAN 3117 #9081339 zu verkaufen
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ID: 9081339
E-beam evaporator
High vacuum station
Includes:
SS Chamber: 18" dia x 20.5" tall
With electro mechanical hoist on 20" SS baseplate
VARIAN M6 Diffusion pump
Rated: 1500 l/s air
NRC / VARIAN 316 LN2 Baffle electro pneumatic valves with sequencer
Mechanical roughing pump: 17 CFM
Does not include helium mass spectrometer.
NRC / VARIAN 3117 ist ein ceramic-to-metal/metal-to-ceramic stotternde für die Vakuumindustrien besonders entworfene Ausrüstung. Dieses Sputtersystem wurde für die Magnetband- und Plattenindustrie, die optoelektronische Geräteproduktion und die IC-Industrie entwickelt. Es ist vielseitig einsetzbar, da es für mehrere Anwendungen verwendet werden kann, einschließlich Beschichtung von Kunststoffsubstraten, Chrom auf Glas, Gold-auf-Gold und Ferrit-Sputtern und Ionenimplantation. Die Sputtereinheit NRC 3117 besteht aus einer Vakuumkammer, einer Haltevorrichtung, einem luftgekühlten Kathodenmagneten und einer Stromversorgung. Die Vakuumkammer ist mit einer isolierenden Membran aufgebaut und besteht aus einem niedrig leitfähigen Material wie Edelstahl und Aluminium. Diese stromlinienförmige Ausgestaltung soll beständig gegen ein Auslaufen der in der Kammer untergebrachten Medien sein und eine Verschmutzung des Arbeitsmaterials und der Arbeitsmittel verhindern. VARIAN 3117 Sputtermaschine verwendet zwei Parallelplatten-Elektrodensysteme und eine Hochleistungs-Gleichstrom (DC) Magnetron-Stromversorgung, um effiziente, homogene Ionenbeschuss zu bieten. Die Gleichstrom-Magnetron-Plasmaquelle dient zur Erzeugung einer hohen Dichte von Argonionen, die dann auf das Zielsubstrat gerichtet sind. Die Stromquelle ist mit einem variablen Leistungstransformator verbunden, mit dem die Leistung eingestellt wird, um eine gleichmäßige Materialschicht über der Oberfläche zu erzeugen. 3117 enthält auch ein Kühlwerkzeug, um die Temperatur der Kammer zu verwalten, die in der Qualität des gesputterten Materials hilft und eine kontrolliertere Umgebung schafft. Um das Targetsubstrat in der Sputterkammer zu halten und zu bewegen, ist die NRC/VARIAN 3117 mit einem beweglichen Probenhalter oder einer Stirnplatte ausgestattet. Dadurch lassen sich Proben in und aus der Kammer leicht be- und entladen. Der Halter ist zudem mit einem für den Sputter-Ionisierungsprozess wichtigen Gashandling ausgestattet. NRC 3117 kann viele verschiedene Arten von Materialien wie Aluminiumlegierungen, Kupfer, Gold und Nickel-Chrom-Legierungen sputtern. Dieses Sputtermodell eignet sich besonders gut, um eine außergewöhnliche Gleichmäßigkeit von ultradünnen Schichten und unterschiedlichen Mustern zu erreichen. Diese Sputterausrüstung ist weit verbreitet für die Herstellung kostengünstiger Prototypen und Unterbaugruppen für Halbleiterprodukte sowie für allgemeine Fertigungsoperationen. Darüber hinaus kann dieses Sputtersystem in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden, wie Abscheidung von dielektrischen Schichten und optischen Komponenten. VARIAN 3117 Sputtereinheit ist eines der zuverlässigsten und vielseitigsten Systeme auf dem Markt und wird weit verbreitet verwendet, um zuverlässige und reproduzierbare Ergebnisse zu liefern. Diese Maschine bietet beispiellose Geschwindigkeit, Genauigkeit und Kontrolle bei der Herstellung von hochwertigen, zuverlässigen Teilen.
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