Gebraucht OERLIKON / UNAXIS Clusterline 200 #293802334 zu verkaufen

OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200 ist eine hochentwickelte Sputterausrüstung, die für die Dünnschichtabscheidung in verschiedenen Branchen wie Halbleiter-, Solar- und optischen Beschichtungen entwickelt wurde. Dieses Sputtersystem verwendet eine Cluster-Werkzeugarchitektur, die einen hohen Durchsatz und Flexibilität bei Abscheidungsprozessen ermöglicht. UNAXIS Clusterline 200 ist bekannt für seine präzise Filmstärkekontrolle, Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit und ist somit eine ideale Wahl für Serienumgebungen. Herzstück der OERLIKON Clusterline 200 Einheit sind die mehreren Prozesskammern, die in eine einzige Plattform integriert sind. Diese Architektur ermöglicht die parallele Verarbeitung mehrerer Substrate, was die Produktivität und Effizienz deutlich erhöht. Jede Prozesskammer ist mit einem eigenen unabhängigen Sputtertarget und einer eigenen Stromversorgung ausgestattet, wodurch unterschiedliche Materialien gleichzeitig oder nacheinander auf den Substraten abgeschieden werden können. Die Maschine verfügt auch über Lastverriegelungskammern zum Be- und Entladen von Substraten, wodurch minimale Stillstandszeiten zwischen den Ablagerungen gewährleistet sind. Clusterline 200 ist mit hochmodernen Sputterquellen wie Magnetron-Sputtern und reaktivem Sputtern ausgestattet und bietet eine breite Palette von Abscheidungsoptionen für verschiedene Materialien und Filmeigenschaften. Die Sputtertargets werden typischerweise aus Materialien wie Metallen, Oxiden und Nitriden hergestellt und bieten Vielseitigkeit bei Dünnschichtabscheidungsanwendungen. Das Werkzeug kann hohe Abscheideraten und eine präzise Kontrolle über die Foliendicke, Zusammensetzung und Struktur erreichen und erfüllt die hohen Anforderungen moderner Dünnschichttechnologien. Darüber hinaus umfasst OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200 erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen, wie die Echtzeit-Überwachung von Schlüsselparametern wie Abscheiderate, Stromverbrauch und Gasdurchflussraten. Diese Fähigkeiten ermöglichen es den Anwendern, den Abscheidungsprozess zu optimieren, was zu hochwertigen dünnen Folien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit führt. Das Asset bietet auch Rezept-Management-Software, mit der Benutzer Prozessparameter für verschiedene Ablagerungsrezepte speichern und abrufen können, was die Einrichtung und den Betrieb des Modells optimiert. In Bezug auf die Handhabung von Substraten ist die UNAXIS Clusterline 200 mit verschiedenen Substratgrößen und -typen kompatibel, einschließlich Wafern, Glasplatten und flexiblen Substraten. Die Ausrüstung kann sowohl Standard- als auch kundenspezifische Substratgrößen aufnehmen und bietet Flexibilität für unterschiedliche Produktionsanforderungen. Darüber hinaus ist die OERLIKON Clusterline 200 mit fortschrittlichen Substratheiz- und Kühlfunktionen ausgestattet, die eine präzise Temperaturregelung während des Abscheidungsprozesses ermöglichen, um die Filmeigenschaften und die Haftung zu optimieren. Clusterline 200 Sputtersystem ist mit einem Fokus auf hohe Zuverlässigkeit, einfache Wartung und Sicherheit konzipiert. Das Gerät verfügt über robuste Vakuumpumpen, fortschrittliche Plasmadiagnosen und automatisierte Reinigungsroutinen, um eine optimale Leistung und Verfügbarkeit zu gewährleisten. Wartungsaufgaben wie Zielaustausch, Kammerreinigung und Maschinenkalibrierung sind benutzerfreundlich gestaltet und minimieren Ausfallzeiten, wodurch die Produktivität des Werkzeugs maximiert wird. Abschließend ist OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200 eine vielseitige und fortschrittliche Sputteranlage, die Dünnschichtabscheidungsfunktionen mit hohem Durchsatz für eine Vielzahl von Anwendungen bietet. UNAXIS Clusterline 200 ist mit seiner Cluster-Werkzeugarchitektur, fortschrittlichen Sputterquellen, präziser Prozesssteuerung und Substrathandhabung eine Top-Wahl für die Herstellung hochwertiger Dünnschichten in Produktionsumgebungen, die eine hohe Produktivität und Zuverlässigkeit erfordern.