Gebraucht PERKIN ELMER 3300 ICP XL #164671 zu verkaufen

ID: 164671
Spectrometer Includes: 200-240 VAC Operation Wide Wavelength 167-782 nm Computer with Winlab32 ICP Software Users manuals Axial Torch NesLab Chiller CFT-33.
PERKIN ELMER 3300 ICP XL ist eine Sputterabscheidungseinrichtung, die ein induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) als Ionenquelle für die Oberflächensputterbeschichtung verwendet. Das System besteht aus einer einzelnen Abscheidekammer, einer Vakuumkammer, einer Magnetron-Stromversorgung, einer HF-Stromversorgung und einer ICP-Stromversorgung. Die Einheit arbeitet mit einem Sputterabscheidungsverfahren, bei dem ein zerstäubtes Material in die Oberfläche eines Substrats gruppiert wird. Dabei handelt es sich um einen Innenraum, in dem eine Hochleistungs-Hochfrequenzwelle erzeugt wird. Das Zerstäubungsmaterial wird dann mit Hilfe eines Magnetrons einem intensiven elektrischen Feld ausgesetzt, das das Material ionisiert, bevor es auf der Oberfläche des Substrats abgeschieden wird. Dieses Verfahren ist als Ionenplattierung bekannt und wird häufig im Halbleiterfeld als Möglichkeit zum Schutz empfindlicher Bauelemente vor Oxidation und Kontamination eingesetzt. 3300 ICP XL Sputtermaschine besteht aus einer einzelnen Abscheidekammer und einer Vakuumkammer, die beide mit der ICP-Quelle verbunden sind. Die ICP-Quelle erzeugt ein Plasma, das zur Erzeugung einer hochgeladenen Atmosphäre und zur Erzeugung eines starken elektrischen Feldes innerhalb der Abscheidekammer dient. Dieses Feld ist notwendig, um Material aus dem Target und in das Substrat zu extrahieren. Das ionisierte Material wird dann zum Substrat hin beschleunigt, um auf seiner Oberfläche einen dünnen, gleichmäßigen Film zu erzeugen. Dieses Abscheideverfahren kann für eine Vielzahl von Materialien, darunter Metalle, Keramiken und Polymere, eingesetzt werden. Wie bei den Depotparametern ist PERKIN ELMER 3300 ICP XL mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet. Sein Magnetron-Netzteil kann bis zu 500 Watt ausgeben, wobei das HF-Netzteil bis zu 200 Watt HF-Leistung erzeugen kann. Zusätzlich kann das Werkzeug bei Drücken von 1 mT bis 10 mT mit einer Abscheiderate von bis zu 0,13 nm/Sekunde betrieben werden. Schließlich verfügt das Asset über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, die eine feinkörnige Kontrolle über die Ablagerungs- und Sputterparameter ermöglicht. Diese Schnittstelle ermöglicht auch die Integration zusätzlicher Funktionen wie Prozesssteuerung und Datenerfassung, was die Möglichkeiten des Modells weiter verbessert. Insgesamt ist 3300 ICP XL eine leistungsstarke und hochgenaue Sputterausrüstung, die für eine Vielzahl von Sputteranwendungen geeignet ist.
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