Gebraucht PERKIN ELMER 4400 #293754989 zu verkaufen

PERKIN ELMER 4400 Sputtergeräte sind ein leistungsstarkes und vielseitiges Werkzeug, das im Analyselabor eingesetzt wird. Es ist in der Lage, dünne Materialfilme auf Substraten durch den Prozess des Sputterns oder reaktiven Sputterns abzuscheiden, der das Substrat für weitere analytische Techniken vorbereitet. 4400 ist ein modulares System, das Flexibilität und Skalierbarkeit bietet. Sie umfasst eine Kathode, Substrathalter und eine Vakuumkammer. Sputtersysteme, wie PERKIN ELMER 4400, rekonstituieren Material auf der Oberfläche eines Substrats in einer Vakuumkammer, indem ein Zielmaterial ionisiert und die Atome auf das Substrat gesputtert werden. Dieses Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß das Targetmaterial im Sputterprozeß verdampft und dann in Form eines dünnen Films auf die Substratoberfläche kondensiert wird. 4400 Sputtereinheit von PERKIN ELMER beherbergt bis zu vier Hochleistungskathoden und vier Tiegel in der Vakuumkammer. Die spezifische Anwendung charakterisiert die Art der verwendeten Kathode, den Quell- und HF-Leistungsbedarf sowie den ultimativen Kammerdruck und die Pumpgeschwindigkeit. PERKIN ELMER 4400 ist auch mit einer automatisierten Temperaturregelmaschine ausgestattet, die eine präzise Temperaturregelung und Messung bietet, um die Gleichmäßigkeit in der Dünnschichtabscheidung zu gewährleisten. Dies ist entscheidend für die Kontrolle der Qualität und Eigenschaften eines dünnen Films. Das Temperaturregelwerkzeug kann den Prozess von -50 ° C bis + 500 ° C genau messen und überwachen. 4400 ist darüber hinaus mit einer integrierten Steuerleitung ausgestattet, die die Einstellung, Steuerung und Überwachung einzelner Zielquellen und Programme mit einer umfangreichen Palette von Parametern wie Abscheiderate, Beladungs- und Entlastungskapazität und Substratheizoptionen ermöglicht. Dadurch wird sichergestellt, dass der Dünnschichtabscheidungsprozess effektiv und effizient abgeschlossen ist. PERKIN ELMER 4400 Sputteranlage bietet überlegene Dünnschichtabscheidung und wurde entwickelt, um maximale Leistung zu bieten. Es ist ein ideales Modell für die Material-, physikalische und medizinische Forschung und bietet Forschern die Flexibilität und Vielseitigkeit, die sie benötigen, um komplexe Sputterprozesse abzuschließen. Die automatisierte Steuerung ermöglicht eine schnelle und präzise Dünnschichtabscheidung sowie die Maximierung des Durchsatzes und die Verkürzung der Prozesszeit.