Gebraucht PERKIN ELMER 4400 #293754993 zu verkaufen
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ID: 293754993
Sputtering system
(4) Round targets, 8"
EBARA QDP-80 Dry pump
Cryo pump
Load lock with backing pump
Automated with battery backup for PC and power on circuit
RF Generator: 2 kW with match network
Auto pressure control with baratron
Gas / MFC Size:
Ar / 100 SCCM
O2 / 10 SCCM
N2 / 10 SCCM.
PERKIN ELMER 4400 ist eine High-End-Sputterausrüstung, die für hochmoderne Leistung und Zuverlässigkeit entwickelt wurde. Dieses vielseitige System ist ideal für eine Reihe von Anwendungen, einschließlich Halbleiterbauelementherstellung, fortschrittliche Verpackung, Funktionalisierung von großflächigen Substraten und Nanotechnologie. 4400 ist in der Lage, verschiedene Metalle, Legierungen und Oxide auf eine Vielzahl von Substraten zu sputtern. Im Zentrum von PERKIN ELMER 4400 steht eine drehbare 5-Target-Sputterkammer, bestehend aus zwei Elektronenstrahlquellen, zwei planaren Magnetronen und einem drehbaren Paddel. Separate Zielsteuerungssysteme liefern die genaue Steuerung und die sehr wiederholbaren Ergebnisse, die für die Geräteherstellung erforderlich sind. Die Elektronenstrahlsysteme sind in der Lage, eine präzise Energie/Leistung-Steuerung und Abtastung, die erheblich erweitert die Fähigkeiten der Einheit. Eine Orion-gesteuerte Schattenmaskenbaugruppe ermöglicht die präzise Abscheidung mehrerer Schichten in einem Durchlauf und ein FMDS-Elektronenmikroskop zur präzisen Substratmaßsteuerung. 4400er Prozesskammer beherbergt verschiedene Substratgrößen bis 12 ". Die mechanische Konstruktion weist fünf zweikolbenbetätigte lineare Bewegungsstufen auf, um eine präzise Regelung der Substratposition in der Sputterkammer zu gewährleisten. In die Maschine ist eine Hochvakuumpumpe integriert, die eine schnelle Evakuierung ermöglicht und einen niedrigen Basisdruck von 5,0 x 10-7 Torr aufrechterhält. PERKIN ELMER 4400 bietet eine präzise Temperaturregelung des Substrats über einen geschlossenen PID-Temperaturregler. Unter Verwendung einer Reihe von Temperatursonden und eines Pyrometers kann der Regler eine eingestellte Temperatur innerhalb von 0,15 ° C halten. Die Kühlung wird durch ein das Substrat umgebendes Wasserumhüllungswerkzeug erreicht. 4400 bietet auch ein vielseitiges Softwarepaket für Automatisierung und Steuerung. Die Anlage ist mit einer 3D-grafischen Benutzeroberfläche (GUI) zur Überwachung und Steuerung des Abscheidungsprozesses ausgestattet, die Echtzeitdaten zu Druck, Gasströmen, Temperatur, Spannung und Strom liefert. Mit seinem modularen Aufbau ist das Modell in der Lage, komplexe Abscheideabläufe zu realisieren und interverriegelbare Prozessschritte zu ermöglichen. Alle diese Merkmale kombinieren, um PERKIN ELMER 4400 zu einer ausgezeichneten Wahl für Forschung, Entwicklung und Produktionsanwendungen zu machen. Seine überlegene Kontrolle und Wiederholbarkeit in Kombination mit seinem robusten Design macht es zur optimalen Wahl für anspruchsvolle Sputteraufgaben.
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