Gebraucht PERKIN ELMER 4400 #42927 zu verkaufen

Hersteller
PERKIN ELMER
Modell
4400
ID: 42927
Sputtering systems With sputter etch capability 8" Round targets Single gas Includes: Delta backing plate Insulator Dark space shield & magnet (2) DC Magnetron assemblies (2) DC Magnetrons RF Diode assembly Etcher RF Generator, 1 kW AE MDX-5, 5 kW DC P/S MKS MFC: Gas control by controller CT-8 Cyro pump with SC controller Gas system: MKS MFC With MKS 250 controller SST Gas line with VCR connections BARATRON With MKS-270 controller G.P. 303 Dual ion guage controller HENRY RF Generator 1 kW AE MDX-5 5000w DC Power supply Process chamber CT-8 Cryo & SC Compressor.
PERKIN ELMER 4400 ist eine Hochdurchsatz-Sputteranlage, die speziell für die präzise Probenvorbereitung entwickelt wurde. Es eignet sich zur Herstellung hochwertiger Dünnschichten, insbesondere für fortschrittliche industrielle Anwendungen, wie Abscheidung von Metallen, Metalllegierungen und Oxiden, sowie Halbleitern auf verschiedensten Substraten. Dieses Sputtersystem ist mit einer leistungsstarken 18 kW Stromversorgung ausgestattet, die eine Abscheidung von bis zu 2,5nm/min Material auf einer Substratoberfläche ermöglicht. Zielhalter sind für bis zu 5 verschiedene Ziele ausgelegt. Darüber hinaus sorgt ein ausgeklügelter Verschlussmechanismus für eine gleichmäßige Abscheidung über den gesamten Probenbereich und sorgt für einen automatischen Zielaustausch und eine minimale Luft- oder Atmosphärenbelastung. Der Sputtervorgang findet innerhalb einer geschlossenen magnetisch abgeschirmten Kammer statt, wodurch Streuelektronen von der Targetoberfläche verhindert werden. Dies wiederum führt zu einer Gleichmäßigkeit der Abscheidung und ausgezeichneter Folienqualität. Eine automatisierte, programmierbare, Gruppenkontrolleinheit und Echtzeitoberflächenröntgenstrahl spektroskopische Oberflächenkontrolle berücksichtigen leichte Operation und Kontrolle des Spritzenprozesses, mit Leistungsparametern wie Absetzungszeit, Strom, Temperatur und Druck kontrolliert und regulierbar. Die Maschine eignet sich gut zur Abscheidung von Metallen, Metalllegierungen und Oxiden, wie Aluminiumoxid, Gold, Titanoxid, Tantaloxid usw. Es ist mit verschiedenen Abscheidungszubehörteilen ausgestattet, einschließlich eines abgewinkelten Substratfutters und einer Quarzmäandereinheit, die das Abscheiden von Folien auf schwer zugänglichen Substraten mit einem scharf gesteuerten Winkel ermöglicht. Darüber hinaus ermöglicht ein fortschrittlicher Sputterkopf die Produktion von Wafern oder Paneelen variabler Größe und Form mit hohem Durchsatz. 4400 bietet eine hervorragende Leistung und eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, so dass seine Benutzer extrem dünne Filme mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit in minimaler Zeit produzieren können. Es ist ein ideales Sputterwerkzeug für kommerzielle und industrielle Zwecke.
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