Gebraucht PERKIN ELMER 4400 #42927 zu verkaufen
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ID: 42927
Sputtering systems
With sputter etch capability
8" Round targets
Single gas
Includes:
Delta backing plate
Insulator
Dark space shield & magnet
(2) DC Magnetron assemblies
(2) DC Magnetrons
RF Diode assembly
Etcher
RF Generator, 1 kW
AE MDX-5, 5 kW DC P/S
MKS MFC: Gas control by controller
CT-8 Cyro pump with SC controller
Gas system:
MKS MFC With MKS 250 controller
SST Gas line with VCR connections
BARATRON With MKS-270 controller
G.P. 303 Dual ion guage controller
HENRY RF Generator 1 kW
AE MDX-5 5000w DC Power supply
Process chamber
CT-8 Cryo & SC Compressor.
PERKIN ELMER 4400 ist eine Hochdurchsatz-Sputteranlage, die speziell für die präzise Probenvorbereitung entwickelt wurde. Es eignet sich zur Herstellung hochwertiger Dünnschichten, insbesondere für fortschrittliche industrielle Anwendungen, wie Abscheidung von Metallen, Metalllegierungen und Oxiden, sowie Halbleitern auf verschiedensten Substraten. Dieses Sputtersystem ist mit einer leistungsstarken 18 kW Stromversorgung ausgestattet, die eine Abscheidung von bis zu 2,5nm/min Material auf einer Substratoberfläche ermöglicht. Zielhalter sind für bis zu 5 verschiedene Ziele ausgelegt. Darüber hinaus sorgt ein ausgeklügelter Verschlussmechanismus für eine gleichmäßige Abscheidung über den gesamten Probenbereich und sorgt für einen automatischen Zielaustausch und eine minimale Luft- oder Atmosphärenbelastung. Der Sputtervorgang findet innerhalb einer geschlossenen magnetisch abgeschirmten Kammer statt, wodurch Streuelektronen von der Targetoberfläche verhindert werden. Dies wiederum führt zu einer Gleichmäßigkeit der Abscheidung und ausgezeichneter Folienqualität. Eine automatisierte, programmierbare, Gruppenkontrolleinheit und Echtzeitoberflächenröntgenstrahl spektroskopische Oberflächenkontrolle berücksichtigen leichte Operation und Kontrolle des Spritzenprozesses, mit Leistungsparametern wie Absetzungszeit, Strom, Temperatur und Druck kontrolliert und regulierbar. Die Maschine eignet sich gut zur Abscheidung von Metallen, Metalllegierungen und Oxiden, wie Aluminiumoxid, Gold, Titanoxid, Tantaloxid usw. Es ist mit verschiedenen Abscheidungszubehörteilen ausgestattet, einschließlich eines abgewinkelten Substratfutters und einer Quarzmäandereinheit, die das Abscheiden von Folien auf schwer zugänglichen Substraten mit einem scharf gesteuerten Winkel ermöglicht. Darüber hinaus ermöglicht ein fortschrittlicher Sputterkopf die Produktion von Wafern oder Paneelen variabler Größe und Form mit hohem Durchsatz. 4400 bietet eine hervorragende Leistung und eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, so dass seine Benutzer extrem dünne Filme mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit in minimaler Zeit produzieren können. Es ist ein ideales Sputterwerkzeug für kommerzielle und industrielle Zwecke.
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