Gebraucht PERKIN ELMER 4400 #9161732 zu verkaufen

Hersteller
PERKIN ELMER
Modell
4400
ID: 9161732
Sputtering system (3) Targets DC and RF magnetron power supplies Load lock.
PERKIN ELMER 4400 ist eine Sputteranlage, die zur Vorbereitung von Oberflächen auf eine Vielzahl komplizierter Studien entwickelt wurde. Das System verwendet ein Sputterverfahren, das einen dünnen Materialfilm auf eine Vielzahl von Substraten zur Verwendung in Filmen, Metallmaskenmustern und anderen Anwendungen abscheidet. Die Hochleistungsabscheidungseinheit verwendet eine Ionenquelle, um die Substrate mit Material zu bombardieren, wodurch ein gleichmäßiger, hochwertiger und kontrollierter Dünnschichtom der Oberfläche erzeugt wird. Die Maschine ist mit einer großen Arbeitsumgebung konzipiert und umfasst einen Mehrgaskrümmer und eine Gasplatte, um die Abscheidung einer Vielzahl von Materialien zu ermöglichen. Es kann mit bis zu drei Substraten betrieben werden und kann entweder mit herkömmlichen DC- oder DC-gepulsten Sputterquellen ausgerüstet werden. Das Werkzeug hat eine maximale Sputterrate von 2 Nanometern pro Minute, was einen schnellen und effizienten Abscheidungsprozess ermöglicht. 4400 ist mit einer Magnetronquelle ausgestattet, die eine verbesserte Abscheiderate über lineare Quellen liefert. Die Anlage ist auch mit einem fortschrittlichen Controller ausgestattet, um Prozessstabilität und Wiederholbarkeit sowie einen Sicherheitsverriegelungsmechanismus zu gewährleisten. Es enthält auch einen automatischen Controller mit Funktionen wie Pulsleistung, mehrstufige Sequenzierung und Rezeptspeicher. Der Controller verfügt außerdem über einen integrierten Temperaturmonitor und automatische Abschaltfunktionen. PERKIN ELMER 4400 wurde für Hochdurchsatz-Abscheidungsumgebungen entwickelt und verfügt über mehrere benutzerfreundliche Funktionen, wie eine grafische Farboberfläche mit Auto-Start-Funktion. Das Modell umfasst auch einen automatischen Substratübertragungsmechanismus und eine fortschrittliche Diagnoseausrüstung, die einen stressfreien Transport des Substrats gewährleistet. Darüber hinaus kann das System für Multi-Sputter-Anwendungen erweitert werden, was die Abscheidung mehrerer dünner Filme ermöglicht. 4400 stellt die neueste Sputtertechnologie dar und kann in einer Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, einschließlich gezielter Metallmaskenmusterung, Ätzen und Passivierung. Dieses Gerät bietet höchste Präzision, Wiederholgenauigkeit und Kontrolle für Sputtergeräte und kann in verschiedenen Forschungs- und Industrieeinstellungen eingesetzt werden.
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