Gebraucht PERKIN ELMER 4400 #9224800 zu verkaufen

PERKIN ELMER 4400 ist eine Sputteranlage, die in der Halbleiterindustrie zur Abscheidung von dünnen Schichten aus leitfähigem Material weit verbreitet ist. Sie besteht aus einer Vakuumkammer, einem HF-Hochfrequenzgenerator, einer Sputterkathode und einem Target. Die Kammer ist mit einem Inertgas, typischerweise Argon, gefüllt und ermöglicht ein Vakuumniveau von bis zu 10-6 mbar. Zum Sputtern wandelt der HF-Generator Wechselstrom-Eingangsstrom in ein hochfrequentes HF-Feld um, das an die Sputterkathode angelegt wird. Die Elektronen beschleunigen zum Zielsubstrat und bewirken beim Aufprall eine Erosion des Zielmaterials. Dadurch wird eine saubere und homogene Materialabscheidung auf dem Substrat erreicht. 4400 Sputtersystem kann sich in einer Schicht oder mehreren Schichten abscheiden, mit Abscheidungsraten von 0,1 nm bis 12 000 nm/min, abhängig von den Prozessparametern. Es kann Materialien wie Oxide, Nitride, Carbide und Metalle abscheiden und ermöglicht die Einstellung der Sputterrate und der Ionenzusammensetzung zur Kontrolle der Filmdicke, Gleichmäßigkeit und Zusammensetzung. Es kann minimale Filmdickenbereiche von 5-500nm erreichen. Eine Vakuumkammer mit 4 Zoll kreisförmigem Target ist üblicherweise mit PERKIN ELMER 4400 Sputtereinheit versehen und ermöglicht den Einsatz von 4-Zoll-Wafern. 4400 Sputtermaschine hat eine Vielzahl von Funktionen, die es eine bequeme Wahl für die Abscheidung von dünnen Filmen machen. Es ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, wie einem Gasdurchflussmesser, einem Druckanzeiger und einem Temperaturanzeiger. Das Werkzeug ist auch mit einer fortschrittlichen Stromquelle ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglicht, die Leistung genau zu steuern, so dass die genaue Einstellung der Abscheiderate möglich ist. Darüber hinaus ermöglicht eine grafische Benutzeroberfläche (GUI) dem Anwender, Prozessparameter wie Kammerdruck, Sputterraten und Zielspannung schnell und einfach zu überwachen und zu steuern. PERKIN ELMER 4400 Sputteranlage ist eine zuverlässige und effiziente Wahl für die Abscheidung von dünnen Schichten in der Halbleiterindustrie. Es ist einfach zu bedienen und zu warten, und bietet eine breite Palette von Vorteilen für Benutzer, so dass es eine ideale Wahl für viele Sputteranwendungen.