Gebraucht PERKIN ELMER 4450 #153442 zu verkaufen

PERKIN ELMER 4450
Hersteller
PERKIN ELMER
Modell
4450
ID: 153442
Wafergröße: 3"-8"
Batch type sputtering system, 3"-8" (3) Delta targets RF Etch Turbo pump / Backing pump on loadlock side Torr-8 cryo pump on chamber side DC / RF Power supply.
PERKIN ELMER 4450 ist eine Sputterabscheidungsvorrichtung, die für die physikalische Bedampfung (PVD) von Materialien in der Halbleiterindustrie verwendet wird. Es ist ein modulares System mit zwei Sputterkammern mit schlüsselfertigen Be- und Entladefähigkeiten sowie dedizierten Substrathalterbaugruppen. 4450 ist eine vollautomatische Sputtereinheit, die von einer prozessüberwachenden Touchscreen-Schnittstelle gesteuert wird, die alle Maschineninformationen anzeigt. Das robotische Be- und Entladen ermöglicht schnelle, konsistente Substrattransfers. Dieses Tool beinhaltet auch einen automatisierten Vakuumreinigungs- und Wartungszyklus, um einen wiederholbaren, zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten. PERKIN ELMER 4450 ist mit fünf Sputterquellen ausgestattet - einer Elektronenstrahlpistole, drei planaren Magnetoplasma-Sputterpistolen und einer vertikalen Magnetoplasma-Quelle. Die Elektronenstrahlpistole versprüht hochgleichmäßige Dünnschichtablagerungen, während die Magnetoplasmaquellen für großflächige, dickere Filmanwendungen ausgelegt sind. Die Punktgröße für die Elektronenstrahlkanone beträgt 5 mm, was eine sehr präzise Abscheidung hochauflösender Funktionen ermöglicht. 4450 verwendet fortschrittliche Sputterabscheidung und dynamische Ionenstrahlätztechnologien. Dies ermöglicht das Aufbringen komplexer und präziser Schichtmuster auf Substrate wie Wafer, Chips und Platten. Die Substrattemperaturen sind von Raumtemperatur bis 400 ° C einstellbar, was eine Vielzahl von Materialabscheidungen ermöglicht. Im Sputterverfahren werden verschiedene Gase wie Argon, Sauerstoff und Stickstoff eingesetzt. Sie werden in der Kammer aufgeladen und erwärmt, dann in Form von Ionen zum Substrat hin beschleunigt. Wenn die Ionen auf das Substrat treffen, bewirken sie, dass das Zielmaterial vom Substrat zerstäubt oder abgeblasen wird. Dieses Abscheidungsverfahren baut einen dünnen Film auf der Oberfläche auf. PERKIN ELMER 4450 ist eine zuverlässige und effiziente Sputteranlage für eine Vielzahl von PVD-Anwendungen. Die automatisierten Prozesse, die präzisen Abscheidefähigkeiten und der zuverlässige Betrieb machen es zu einer wertvollen Ergänzung für eine Vielzahl von Industrie- und Forschungsanwendungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor