Gebraucht PERKIN ELMER 4450 #9114027 zu verkaufen

Hersteller
PERKIN ELMER
Modell
4450
ID: 9114027
Sputtering system TaN process Omron PLC Control (2) Gas (2) Delta target (2) AE MDX-5 PS CT-8 Cryo pump Pallet, 6" No etch, LL heat Currently installed 2000-2005 vintage.
PERKIN ELMER 4450 ist ein Sputtersystem, das hauptsächlich bei der Dünnschichtabscheidung und Analyse von Materialien eingesetzt wird. Es eignet sich hervorragend für eine Vielzahl von Forschungs- und Entwicklungsaufgaben, wie die Abscheidung von nanostrukturierten Materialien und die Bildung von leitenden Schichten. Die Vorrichtung besteht aus einer Sputterkammer mit einem Targethalter, einem Prozessgaseinlaß und einem unterhalb des Targets angeordneten Flachplattensubstrathalter. Innerhalb der Kammer wird hochreines Argon oder anderes Inertgas durch eine heiße Kathode oder Elektronenkanone ionisiert, um Material vom Target auf das Substrat zu sputtern. Diese Plasma-Sputterabscheidung ist ein langsamer, hoch kontrollierter Prozess, der die Abscheidung dünner, gleichmäßiger Schichten mit präzisen Materialdicken wie Gold, Kupfer und Chrom auf Substraten wie Silizium, Glas und Keramik ermöglicht. Die computergesteuerte Software des Systems ermöglicht die Einstellung und Anpassung einer Vielzahl von Prozessparametern an spezifische Abscheidungsanforderungen, wie die Substrattemperatur oder die Sputterrate. Dazu gehören Gasdruck, Substratvorspannung, Zielleistung, Substratkrümmung und Einfallswinkel. 4450 ermöglicht eine vollständige In-situ-Analyse der Oberflächenzusammensetzung, der chemischen Zusammensetzung und des Zusammensetzungsprofils der abzuscheidenden Schicht. Dies geschieht durch die Installation der entsprechenden externen Analysegeräte direkt innerhalb der Abscheidekammer. Eine solche Analyse ermöglicht es Forschern, die Eigenschaften der abgeschiedenen Schichten zu optimieren und die gewünschte Schichtdicke, Zusammensetzung und Profil zu überprüfen. Darüber hinaus ermöglicht PERKIN ELMER 4450 Anwendern die Implementierung einer Vielzahl von Techniken zur Verbesserung der Qualität der abgeschiedenen Folie, wie Ionenstrahlmischung oder reaktives Sputtern. Diese Techniken erweitern den Bereich möglicher abgeschiedener Materialien, verbessern die elektrischen, optischen und thermischen Eigenschaften der Schicht und ermöglichen die Bildung von Verbindungen wie Nitriden und Karbiden. 4450 ist ein hochentwickeltes Sputtersystem, das entwickelt wurde, um eine präzise und wiederholbare Dünnschichtabscheidung mit vollständiger In-situ-Analyse zu ermöglichen. Mit seiner breiten Palette an verfügbaren Parametern und Einstellungen bietet es Forschern die Möglichkeit, eine Reihe von Materialien auf eine Vielzahl von Substraten abzulegen sowie die Eigenschaften der Schichten zu steuern und zu optimieren.
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