Gebraucht PERKIN ELMER 4450 #9173056 zu verkaufen

Hersteller
PERKIN ELMER
Modell
4450
ID: 9173056
Wafergröße: 6"
Sputtering system, 6" Load lock system (4) 8” Target head assemblies, bonded MKS Gas control with MKS MFC and CMT Pallet (7) Positions GP 303 Ion gauge controller With dual convectron & IG tubes VAT throttling gate valve Vexta precision table motor and controller AE Pinnacle 6 kw RF power supply AE MDX-10 DC power supply, 10 kW ENI RF Generator with matching unit for etch RGA (Residual Gas Analyzer) 21 CFM Mechanical pump CT-8 Cryo and SC compressor.
PERKIN ELMER 4450 ist eine hochwertige Sputterausrüstung, die sich zum Abscheiden dicker Filme aus verschiedenen Materialien auf verschiedensten Substraten eignet. Das System ist so konzipiert, dass es ultraglatte und einheitliche Materialschichten auf einem beliebigen Substrat bereitstellt und eine Vielzahl von Sputtermaterialauswahlmöglichkeiten bietet. 4450 wurde entwickelt, um die Produktivität zu maximieren und Ausfallzeiten zu minimieren, indem es einfachen Zugriff auf Sputterziele, ein Hochleistungs-Kühldielektrikum und eine präzise Kontrolle über Druck, Leistung und Prozesszeit bietet. Das Gerät verfügt über eine nicht evakuierende Doppelzielkammer, die dem Anwender eine hohe Flexibilität für komplexe Sputterprozesse bietet. Es hat einen Vakuumbereich von 10-6 mbar mit einer maximalen Sputtergeschwindigkeit von 500 Å/sec und einem Basisdruck von 6 × 10-8 mbar. Die Sputtertargets werden in Elektronenkanonen montiert, die leicht entfernt und ersetzt werden können, um schnell auf verschiedene Sputtermaterialien zugreifen zu können. Die Maschine ist mit einem hochpräzisen Bewegungsstufenregler ausgestattet, der in Verbindung mit dem Dual-Target-Setup eine gleichmäßige Probendicke über weite Bereiche ermöglicht. PERKIN ELMER 4450 integriert eine fortschrittliche Controller-Logik in sein Design, die ein hohes Maß an Flexibilität und Kontrolle über das Sputterverfahren bietet. Es enthält eine Rampe-up/Rampe-down-Funktion, die besonders nützlich ist, wenn dickere Filme auf größeren Substraten gesputtert werden. Der Anwender kann seine gewünschten Prozessparameter einschließlich Leistung, Druck und Zeitdauer über eine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche programmieren. Dies ermöglicht eine sehr genaue Kontrolle des Prozesses und gewährleistet so präzise Beschichtungsergebnisse. Das Werkzeug ist mit einem voll integrierten Kühldielektrikum ausgestattet, um Ziel- und Quelltemperaturen während des Sputtervorgangs aufrechtzuerhalten. Das Dielektrikum ist so konzipiert, dass es bei Sputtervorgängen niedrige Temperaturen aufrechterhält, was für die Minimierung der Verdampfung von Zielmaterialien und den Abbau des Plasmas unerlässlich ist. Es hilft auch, einen gleichmäßigen Sputterprozess und eine gleichmäßige Substratabdeckung aufrechtzuerhalten. 4450 ist eine gute Wahl für eine breite Palette von Anwendungen, einschließlich der Abscheidung von Materialien für MEMS, Halbleiter und Photovoltaik-Bauelemente. Mit seiner fortschrittlichen Steuerungslogik und dem integrierten Kühldielektrikum sorgt das Asset für hochgleichmäßige, dicke Folien mit minimalem Aufwand vom Anwender.
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