Gebraucht PERKIN ELMER 4450 #9190161 zu verkaufen

Hersteller
PERKIN ELMER
Modell
4450
ID: 9190161
Sputtering system (4) Target systems Round target, 8" RF Target (3) DC Targets Load lock pallet, 24" Data logging Recipe control Remote operation Color touch screen Jennings vacuum: 5kW Optical shutter position sensors Simplified sputter head design Industrial PC Water / Pneumatic distribution box Electro polished chambers VAT Throttling gate valve Keyboard Vexta precision table motor Controllers Oil free scroll type mechanical pump Color coded air N2 Water lines Mass flow controller Residual gas analyzer Quick disconnects Mounted rails for easy access Touchscreen display Process logic controller.
PERKIN ELMER 4450 ist ein High-End-Hydrid-Sputtersystem, das entwickelt wurde, um dünne Filme aus Metall oder Legierungen kontrolliert und gleichmäßig auf Substraten abzuscheiden. Es wird häufig in der Herstellung von Halbleitern, magnetischen Bauelementen, Optik und anderen elektronischen Bauelementen verwendet. Das System besteht aus mehreren Komponenten: einer Kammer, einem Substrathalter, einer Stromversorgung, einem Verdampfer, einem Verschlussmechanismus und einem Hochfrequenzgenerator. Die Kammer besteht aus zwei Edelstahlwänden und ist abgedichtet, um ein Vakuum zu halten. Der Substrathalter ist auf der Kammer montiert und dient zur Befestigung des zu behandelnden Substrats. Die Stromversorgung dient dazu, die Kammer mit einer konstanten Spannung und Strom zu versorgen und im Betrieb zu unterstützen. Mit dem Verdampfer wird das zu zerstäubende Material auf das Substrat verdampft. Der Verschlussmechanismus wird verwendet, um zu steuern, wenn Material verdampft wird. Schließlich dient der HF-Generator zur Bereitstellung eines Elektronenstroms, der das verdampfte Material auf das Substrat ablenkt. Sobald das Material verdampft ist, wird der Substrathalter innerhalb der Kammer platziert und dann ein Vakuum erzeugt. Der HF-Generator wird verwendet, um ein elektrisches Feld innerhalb der Kammer zu erzeugen und einen Elektronenstrahl zu erzeugen, der bewirkt, dass das Material von der Oberfläche des Substrats sputtert. Dieser Vorgang wird hundertfach wiederholt, bis die gewünschte Dicke der Folie erreicht ist. Der Vorteil der Anwendung der Sputtertechnik besteht darin, daß dadurch gleichmäßige Materialschichten auf das Substrat aufgebracht werden können, die dann strukturiert oder beschichtet werden können. Darüber hinaus kann das Verfahren verwendet werden, um hochleistungsfähige, langlebige Materialien mit hervorragenden elektrischen, optischen und mechanischen Eigenschaften zu schaffen. 4450 kann für viele verschiedene Anwendungen verwendet werden, einschließlich der Schaffung von hochwertigen Halbleiterbauelementen, magnetischen Materialien, optischen Spiegeln, Spiegelbeschichtungen, Speicherbauelementen und mehr. Darüber hinaus kann es auch für Forschungs- und Entwicklungszwecke verwendet werden, da das System mit Mischungen verschiedener Elemente und Verbindungen exaktere und uniformierte Schichten erzeugen kann.
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