Gebraucht PERKIN ELMER 4450 #9199550 zu verkaufen
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ID: 9199550
Wafergröße: 8"
Sputtering system, 8"
Wafer loading: Manual with load lock
Cathode:
(3) Delta shapes
(4) Circle shapes
Sputter method:
RF/DC
Diode / MAGNETRON
Process chamber:
8" Diameter x 12" High stainless steel cylinder with 6"
CF Flange view port and load lock port
28" Diameter stainless steel base plate
11/2" Air operated roughing isolation valve
Air operated gas inlet valve
Air operated vent valve
11/2" Blanked-off leak check port
Removable deposition shields
23" Diameter, 3-position water cooled annular substrate
Table with variable speed motorized table drive
Full circle shutter and vane shutter
Chain drive pallet carrier transport
Heavy duty electric hoist
Load lock:
30" x 28" x 8" Stainless steel load lock chamber
Aluminum cover
Chain drive pallet carrier transport
2" Air operated roughing isolation valve
Air operated vent valve
23" Diameter molybdenum annular substrate pallet
Elevator for pallet up and down function
Vacuum systems for process chamber:
(2) Stage cryo pumps
With 1000 l/s pumping speed for air
Includes:
Chevron
Water cooled compressor and lines
Automatic regeneration controller
Plumbing kit, 71/2"
Aluminum air operated gate valve: 6" ASA
Air operated venetian blind throttling valve
Mechanical pump or dry pump for process: 36.7 Cfm
Chamber and load lock
Gas line with MFC
N2
O2
SCCM
Customized
System PC control
Options:
Gas lines with MFC
N2
O2
Customized
Lamp tower alarm with buzzer:
Mechanical pump / Dry pump for process chamber and load lock
Independent mechanical pump / Dry pump for process chamber
Chiller for cooling plates and table
Turbo pump for load lock
Load lock lamp heating function: Up to 200°C
Chamber lamp heating function: Up to 300°C
Plasma etch function
Bias function
Co sputter function
Reactive sputter function
Materials:
AI+W
InSnO
AI2O3
Ag_
Au
C
Cr
Cr/Co
Cr/Au
Cr+Cu
Cr/Si
Cr/SiO
Cr/Si02
Si02
Mo
MoSi2
Mo2Si5
Mc>5Si3
Ni
Ni/Cr
Ni+Ni/Cr
Ni/Fe
Pt
Ti02
SiC
Ti/W
Si02+02
Si+N2(Si3N4)
Si+N2+B4C
Ta
TaC
Ta+Au
TaSi2
Ta+Si02
Zr
Ti02+Cr
Ti+Au
Ti+Au+Ni
Ni/Fe+Cu+Si02
Ti/W+Au
Ti/W+Au+Ta
Ti/W+AI/Si
Ti/W+Ni/Cr+Au
Ti/W+Pt
Al+Ti/W+Ag
W+AI2O3
Zn
Zri02
Basic configuration
Main frame
28" Diameter SST chamber top plate with ports and cathodes:
Configuration 4400 4410 / 4450
Cathode shape Circle Delta
Cathode size 8" Delta
Cathode quantity 1 to 4 1 to 3
Sputter power supply:
4400 4410 / 4450
DC Power 5 kW 5 kW / 10 kW
RF Power 1kW / 2kW 2 KW / 3 kW
Pulse DC Power 5 kW 5 KW / 10 kW
Power distribution box: AC380 V / 208 V / 3 Phase.
PERKIN ELMER 4450 ist eine Hochleistungs-Sputteranlage, die zum Aufbringen dünner Materialschichten auf verschiedene Substrate entwickelt wurde. Es verwendet Magnetron- oder Ionenbeschuss-Abscheidungstechniken, um ultraglatte Schichten von Metallfilmen, Oxiden und verschiedenen anderen Materialien zu erzeugen. Das System umfasst zwei 3-Zoll-DC-Sputterelektroden und eine große Vakuumkammer, ideal für Niedertemperatursputteroperationen. Der Hochleistungs-Magnetron-Sputterprozess in 4450 verwendet eine effiziente und hochzuverlässige Kühleinheit, um maximale Leistung und betriebliche Langlebigkeit zu gewährleisten. Durch den Einsatz von Argon oder Stickstoffgas bei hohen Drücken ist die Maschine in der Lage, überlegene Filmeigenschaften mit optimalen Abscheidungsgeschwindigkeiten zu schaffen. Das Tool ist auch mit fortschrittlicher Wulst-Reinigungstechnologie für eine verbesserte Lebensdauer der Asset-Komponenten ausgestattet. Das Modell erfordert eine minimale Wartung und bietet überlegene Vakuumpumpen. Seine niedrige Betriebstemperatur hilft, die Substratheizung zu minimieren und die Qualität der Deckschicht zu verbessern. Das Gerät enthält auch einen hochpräzisen Kapazitätsdickenmonitor mit einem pulsregulierenden Monitor, um eine hervorragende Schichtabscheidung zu gewährleisten. Dieser Monitor ermöglicht auch unterschiedliche Sputterströme und bietet Anwendern eine ideale Kontrolle über den Beschichtungsprozess. Die einfach zu bedienende Schnittstelle der Systeme ermöglicht es dem Anwender, schnell und einfach zwischen verschiedenen Sputterparametern und Zielmaterialien zu wechseln. Sein geräuscharmer Betrieb macht es sicher und zuverlässig für längere Zeiträume zu verwenden. Es hat ein kompaktes und leichtes Design, das es einfach macht, verschiedene Arbeitsplätze zu lagern und zu transportieren. PERKIN ELMER 4450 ist die ideale Wahl für Labor- und industrielle Sputterprozesse. Die fortschrittlichen Funktionen und die benutzerfreundliche Oberfläche machen es zu einer idealen Wahl für diejenigen, die nach überlegener Schichtabscheidung und überlegener Leistung suchen. Das fortschrittliche Kühlsystem und die Niedrigstrominstrumente machen es sehr zuverlässig und effizient für Niedertemperatursputteroperationen.
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