Gebraucht PERKIN ELMER 4450 #9262871 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 9262871
PVD Sputtering system
DELTA Target
Cryo compressor
Vacuum pump
Vacuum gauge
Gallium Arsenide (GaAs)
Glass wafers / Solar cell
ADVANCED ENERGY RFX 6000 RF Generator
ADVANCED ENERGY DC Power supply
Temperature controller
Silicon wafer, 4"-8"
Panel missing.
PERKIN ELMER 4450 ist eine hochleistungsfähige poly-kristalline Zielsputteranlage, die für eine breite Palette von Sputter- und Abscheidungsanwendungen entwickelt wurde. Es verfügt über eine fortschrittliche computergesteuerte Sputterprozessumgebung, die Flexibilität für erweiterte Prozesskontrolle und Sputterratenüberwachung bietet. Das System wurde entwickelt, um eine breite Palette von Sputterstrategien bereitzustellen, die die Abscheidung von hochwertigen, einheitlichen Filmen wie Metalloxiden, SiO2 und hochleitenden Filmen ermöglichen. Das Gerät arbeitet in einem breiten Bereich von Drücken, von niedrigem Vakuum bis zu mäßigem Vakuum, was die Abscheidung von großformatigen und gemusterten Proben ermöglicht. Es ist mit einer großen Targetkammer mit einer drehbaren Kathodenanordnung ausgestattet, die das Sputtern von mehr als 4500 Einzelzielen ermöglicht. Die Maschine ist mit einer Reihe computergesteuerter Parameter wie Sputterdruck, Abscheidetemperatur, Anordnung der Ziele und Zielöffnung ausgestattet. Sie ermöglicht auch eine präzise Steuerung der Zerstäubungsgeschwindigkeit und Gleichmäßigkeit der Folie über die gesamte Oberfläche des Substrats. Das Werkzeug eignet sich auch für Sputterätzen und hohe Gleichmäßigkeitsraten. Es verfügt über einen 3-achsigen einstufigen Magnetfeldgenerator mit maximal 150 mT, der ein gleichmäßiges Sputterprofil und eine gleichmäßige Abscheiderate gewährleistet. Der Sputterratenregler, der über einen SPS-Mikroprozessor betrieben wird, sorgt für eine präzise Steuerung der Abscheideraten und reduziert die Prozesszeit. Das Asset verfügt auch über eine Reihe benutzerfreundlicher Funktionen, einschließlich einer webbasierten GUI, die eine Fernsteuerung und Überwachung des Sputterprozesses ermöglicht. Das Modell ist mit einem optischen Emissionsspektrometer, einer Mikrowaage, einer Magnetronsputterquelle, einer Argonionenquelle, einem Thermoelement, einem E-Strahlverdampfer und einer Vakuumpumpe ausgestattet. Diese Ausrüstung umfasst eine vielseitige Kammer mit einem fortschrittlichen Vakuumsystem, das eine saubere, umweltfreundliche Umgebung bietet. Die Kühlung erfolgt durch energieeffiziente Flüssigkeitskühlsysteme, die die Sputterkammer für den gewünschten Prozess auf einer gleichbleibenden Temperatur halten. Zusammenfassend ist 4450 eine moderne, leistungsstarke Sputtermaschine, die für eine Vielzahl von Sputter- und Abscheidungsanwendungen entwickelt wurde. Dieses Werkzeug ermöglicht eine einfache Prozesssteuerung, eine ausgezeichnete Ratenkontrolle und einheitliche Filme. Die Anlage umfasst außerdem ein zuverlässiges Vakuummodell und eine Reihe benutzerfreundlicher Funktionen, die es für eine Vielzahl von Prozessen geeignet machen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor