Gebraucht PERKIN ELMER ICP 2000DV #9231262 zu verkaufen

PERKIN ELMER ICP 2000DV ist eine professionelle Sputterausrüstung für die physikalische Aufdampfung von dünnen Schichten für Forschung und industrielle Anwendungen. Dieses fortschrittliche Sputtersystem verfügt über eine 4-Achsen-Manipulationseinheit zur gleichmäßigen Abscheidung und verfügt über eine Hochvakuumkammer mit großer Zugangstür zum einfachen Be- und Entladen. Zu den Hauptkomponenten dieser Maschine gehören eine Magnetron-Sputterkathode, ein Substrathalter, eine Steuerung zur Manipulation des Substrats, eine HF-Stromversorgung und ein Hochvakuum-Pumpwerkzeug. Die Anlage ist in der Lage, extrem gleichmäßige dünne Filme von etwa 0,2-100 nm Dicke zu produzieren. Die Magnetronsputterkathode verwendet Argon oder andere inerte Gase, um ein Plasma zu erzeugen, um ein Zielmaterial mit positiven oder negativen Ionen zu bombardieren. Das Zielmaterial wird dann mit hohen Geschwindigkeiten auf das Substrat gesputtert. Der Substrathalter ist für die Manipulation des Substrats verantwortlich, um eine gleichmäßige Abscheidung zu gewährleisten, und er ist in der Lage, das Substrat zu drehen, zu kippen und zu drehen. Der Controller ermöglicht es Benutzern, Parameter wie Abscheiderate, Gleichmäßigkeit und Prozessleistung zu programmieren. Die HF-Stromversorgung ist für die Bereitstellung der Hochspannungs- und Niederfrequenzsignale verantwortlich, die für hohe Zerstäubungsraten benötigt werden. Es ist in der Lage, eine präzise Leistungsregelung mit stabilen und wiederholbaren Prozessparametern bereitzustellen. Das Hochvakuumpumpenmodell wird verwendet, um ein hohes Vakuumniveau für eine effiziente Abscheidung aufrechtzuerhalten. Es besteht aus mehreren Vakuumstufen und kann ein ultimatives Vakuum von < 2 x 10-6 Torr erreichen. Das Gerät ist auch mit Software und Hardware ausgestattet, die es Anwendern ermöglicht, den gesamten Prozess einfach zu überwachen und zu steuern. Die Software verfügt über Visualisierungs- und Datenerfassungsfunktionen mit einer einfach zu bedienenden grafischen Oberfläche. Die Hardware enthält eine X-, Y-, Z- und Theta-Motorsteuerung zur präzisen Manipulation von Substraten in der Abscheidekammer und einen kumulativen Timer, der die gesamte Betriebszeit des Systems erfasst. PERKIN ELMER ICP 2000 DV ist eine ideale Wahl für Forschungs- und Industrieanwendungen, die dünne Folien sehr präzise abscheiden müssen. Diese fortschrittliche Sputtereinheit ist in der Lage, qualitativ hochwertige dünne Filme für verschiedene Materialanwendungen zu produzieren, und seine benutzerfreundlichen Software- und Hardwarefunktionen machen es Anwendern leicht, Prozessparameter zu überwachen und zu steuern.