Gebraucht PLASMA SCIENCES HRC 200 #10010 zu verkaufen
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ID: 10010
Wafergröße: 8"
table top sputtering system, 8"
Turbo Pump
15 minute pump down time to 5x10e-5 torr
Does not have a power supply
Requires either a DC power supply or a RF power supply
Power supply should be 200-300 watts.
PLASMA SCIENCES HRC 200 ist ein vielseitiges und kompaktes Hochgeschwindigkeitssputtersystem, das eine Vielzahl von Materialien für verschiedene Anwendungen abscheiden kann. Es ist in der Lage, eine Hochleistungsabscheidung mit Langzeitwiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit zu realisieren, die für viele Anwendungen wie Plattenlaufwerkkopfschichten, Substrate, MOS/MEMS und High-End-Unterhaltungselektronik gewünscht ist. HRC 200 basiert auf radialer Magnetron-Sputtertechnologie, um nichtmagnetische Materialien auf einer Vielzahl von Substraten wie Aluminium, Edelstahl, Quarz, Glas und Silizium abzuscheiden. Der Vorteil dieser Technologie besteht darin, dass sie sowohl die Beschichtung großer als auch kleiner Flächen sowie die Abscheidung sehr dünner, sehr gleichmäßiger Schichten ermöglicht. Die HR-200 ist in der Lage, eine Reihe von Metallen, Keramiken und anderen Materialien wie Aluminiumoxide, Chrom, Titan, Siliziumnitrid, Eisenoxid und viele andere Verbindungen abzuscheiden. Es verwendet auch eine Vielzahl von fortschrittlichen Technologien wie ionisierte physikalische Dampfabscheidung (IPVD) und Hochleistungsimpuls Magnetron Sputtern (HIPIMS). Seine fortschrittliche Plasmaquelle ermöglicht die Abscheidung extrem gleichmäßiger Schichten mit besonders hoher Gleichmäßigkeit über große Substrate. Die HR-200 verwendet auch fortschrittliche Kontroll-, Temperatur- und Drucküberwachungssysteme, um eine gleichmäßige und wiederholbare Abscheidung zu gewährleisten. Dieses System ist für kostengünstige Beschichtung auf großen Substraten mit überlegener Gleichmäßigkeit ausgelegt. Seine geringe Stellfläche und seine leichte Bauweise machen es sehr einfach zu transportieren und macht es für den Labor- oder industriellen Einsatz geeignet. PLASMA SCIENCES HRC 200 ist einfach zu bedienen und mit automatisierter Überwachung von Kammerdruck und Abscheiderate zu warten. Es enthält auch ein integriertes Substrat-Substrat-Rotationssystem, um die Gleichmäßigkeit über große Substrate zu verbessern. Darüber hinaus können nahezu alle Vorgänge und Bedingungen per Internet-Konnektivität fernüberwacht und verwaltet werden. Insgesamt ist HRC 200 eine ideale Lösung für Hochleistungssputtern von Metallen und Metalloxidmaterialien mit überlegener Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit. Es bietet eine leistungsstarke, kompakte und flexible Beschichtungslösung für verschiedenste Anwendungen. PLASMA SCIENCES HRC 200 bietet durch seine fortschrittlichen Technologien und Fernüberwachung zuverlässige und wiederholbare Abscheidungsprozesse mit außergewöhnlicher Wiederholbarkeit und Einheitlichkeit.
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