Gebraucht SEMICORE MRC-943 #9275511 zu verkaufen

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Hersteller
SEMICORE
Modell
MRC-943
ID: 9275511
Wafergröße: 6"
Seed layer deposition system, 6" Process chamber (3) Targets: T1: TIW T2: CR T3: CU Process chamber ultimate vacuum: ≤5.0E^-6torr Loadlock ultimate vacuum: ≤5.0E^-6torr Process gas: Ar Process gas flow: 0 ~ 100sccm Process pressure control range: 0 ~ 20mtorr RF Power: 0 ~ 1500 W DC Power: 0 ~ 10 kW Film uniformity: ≤5% Spare parts included.
SEMICORE MRC-943 Sputtergeräte ist eines der fortschrittlichsten Sputtersysteme auf dem Markt. Es ist ein leistungsstarkes, vielseitiges und kostengünstiges System, das sich ideal für eine Vielzahl von Anwendungen eignet. SEMICORE 943 verwendet die magnetische Radialkompressionstechnologie, um hohe Durchsatzraten bei gleichmäßiger, gleichmäßiger Abscheidung von zerstäubtem Material zu erreichen. Unter Einbeziehung einer einzigartigen, 3-achsigen Bewegungssteuerung zur präzisen Steuerung der Sputterraten und des Winkels des Zielmaterials ist die Einheit in der Lage, eine sehr hohe Präzision und genaue Abscheidung zu erreichen. Die fortschrittliche Steuerung ermöglicht auch die Fernsteuerung und Überwachung der Maschine über das Internet. MRC-943 ist für große Produktionsläufe gebaut, mit einer großen Sputterfleckengröße, die Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm aufnimmt. Im Gegensatz zu anderen Sputtersystemen nutzt 943 eine einzigartige Shunt-Stufe, um während des Sputterprozesses erzeugte Partikel abzuführen, wodurch eine höhere Qualität der Abscheidung und längere Laufzeiten ermöglicht werden. Darüber hinaus ermöglicht das Werkzeug schnelle Substratänderungen, wodurch die Wartezeiten anderer Sputtersysteme eliminiert werden. Der leistungsstarke Controller und die fortschrittliche Software von SEMICORE MRC-943 ermöglichen es Benutzern, das Asset zu programmieren, um gesputtertes Material auf verschiedene Weise einzulagern. Das Mustern und Ätzen kann einfach mit dem Modell durchgeführt werden, und der Sputterprozess kann nach benutzerdefinierten Parametern automatisiert werden. Das Gerät wird von einem hocheffizienten HF-Netzteil angetrieben und umfasst eine Reihe leicht austauschbarer, abnehmbarer Keramikziele, die eine breite Palette von Abscheidungsmöglichkeiten bieten. SEMICORE 943 verfügt auch über fortschrittliche computergesteuerte Temperaturregelungs- und Vakuumsysteme, mit denen der Bediener die Temperatur des Ziels und des Substrats während des Abscheidungsprozesses genau anpassen kann, um optimale Ergebnisse zu erzielen. Insgesamt ist MRC-943 Sputtersystem eine fortschrittliche Einheit, die sich perfekt für eine Vielzahl von Anwendungen eignet. Mit seinen leistungsstarken Steuerungssystemen, einer Vielzahl von Ablagerungsmöglichkeiten und automatisierten Programmierfunktionen ist diese Maschine eine gute Wahl für jede Forschungs- oder Produktionsumgebung.
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