Gebraucht SHIBAURA CFS-8EP-55 #293608660 zu verkaufen
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ID: 293608660
Weinlese: 2001
Sputtering system
Heater table: 380φ
(3) Targets, 5"
2001 vintage.
SHIBAURA CFS-8EP-55 ist eine Sputteranlage, die für die Herstellung von Dünnschicht-Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Diese Maschine ist ein leistungsstarkes, vielseitiges Werkzeug zur Herstellung von Dünnschichten für eine Vielzahl von Anwendungen, darunter: Dünnschicht-Photovoltaik, Display-Technologien, Dünnschicht-MEMS-Geräte und Dünnschicht-Biosensoren. Das Sputtersystem arbeitet mit niedrigem Druck und benötigt sowohl eine Vakuumkammer als auch zwei oder mehr Plasmasputterquellen. Die Kammer besteht aus Edelstahl und kann einen maximalen Druck von 3,2 × 10-1 Pa.Innerhalb der Kammer umgibt ein Paar kreisförmiger Magnete - als Magnetron bezeichnet - das Zielmaterial, um die Plasmadichte durch Komprimieren und Fokussieren der Ionen zu erhöhen. Dies erhöht die Emissionsrate des Zielmaterials in die Kammer, was zu einer verbesserten Geschwindigkeit und Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung führt. Die Sputtereinheit ist mit zwei Sputterquellen für verbesserte Baugeschwindigkeiten ausgestattet. Das LPH-30P besteht aus zwei modularen Stromversorgungen, einer Phasenverschiebungsschaltung, mit der die relative Phase zu den beiden Quellen gesteuert werden kann, und zwei omnidirektionalen 0,8 cm Zerstäubungselektroden. Die LPH-30P verwendet Gleichstrom (DC) -Leistung, um eine hohe Ziel/Substrat-Abdeckungsrate zu erreichen. Die LPH-30P eignet sich zur Abscheidung von Oxiden, Nitriden und Metallen. Die andere Sputterquelle der Maschine, die PES-30P, ist eine gepulste entfernte Plasmaquelle mit einem höheren Leistungspegel als die LPH-30P. Sie arbeitet bei höherer Druckeinstellung und weist eine spiralförmige Elektrode auf. Diese Konstruktion erzeugt ein hochenergetisches Plasma und einen größeren Radius an zerstäubtem Material, was zu einer schnelleren Abscheidung und einer verbesserten Gleichmäßigkeit in kleinen Bereichen führt. Es ist ideal zum Abscheiden von Legierungen und anderen Mehrkomponentenmaterialien. CFS-8EP-55 Sputtertool bietet Anwendern auch erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen. Ein mit der Kammer verbundener Regler ermöglicht die Überwachung aller Parameter in Echtzeit. Der Controller ist mit einer Windows-basierten grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die eine einfach zu bedienende Plattform zur Steuerung der verschiedenen Funktionen des Assets bietet. Zusätzlich ermöglicht die Software eine automatische Prozesssteuerung, um bestmögliche Filmabscheidungsergebnisse zu gewährleisten. Insgesamt ist SHIBAURA CFS-8EP-55 ein leistungsfähiges und zuverlässiges Sputtermodell, das den Anforderungen heutiger Forschungs- und Entwicklungsprojekte gerecht wird. Die Maschine ermöglicht es Anwendern, qualitativ hochwertige dünne Folien aus einer Reihe von Materialien zu erstellen, wodurch sie die ultimative Flexibilität und Kontrolle bei der Verarbeitung empfindlicher Substrate erhalten.
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