Gebraucht SHIBAURA MECHATRONICS CCS-2800 #293815200 zu verkaufen

SHIBAURA MECHATRONICS CCS-2800 ist eine hochmoderne Sputteranlage, die speziell für Dünnschichtabscheidungsanwendungen in verschiedenen Branchen wie Halbleiter, Optik und Elektronik entwickelt wurde. Es verfügt über fortschrittliche Technologie und präzise Steuerungsmechanismen, um effiziente und zuverlässige Beschichtungsprozesse zu gewährleisten. Kern CCS-2800 Systems ist seine Sputterkammer, die eine kontrollierte Umgebung für die Abscheidung von dünnen Schichten auf Substraten bietet. Die Kammer ist typischerweise mit mehreren Sputtertargets aus verschiedenen Materialien ausgestattet, die die Abscheidung einer Vielzahl von Beschichtungen mit unterschiedlichen Eigenschaften ermöglichen. Diese Ziele werden mit hochenergetischen Ionen beschossen, die von einer Plasmaquelle erzeugt werden, wodurch Materialatome ausgestoßen und auf die Substratoberfläche abgeschieden werden. Eines der Hauptmerkmale von SHIBAURA MECHATRONICS CCS-2800 ist seine fortschrittliche Plasmaerzeugungseinheit, die entscheidend für die Erzielung hochwertiger Dünnschichtbeschichtungen ist. Die Maschine verwendet Hochleistungs-HF-Generatoren und Magnetfeldsteuerung, um eine stabile und gleichmäßige Plasmaentladung innerhalb der Kammer zu erzeugen. Dieses Plasma erleichtert nicht nur das Sputtern der Zielmaterialien, sondern hilft auch bei der Kontrolle der Filmzusammensetzung, Struktur und Qualität. CCS-2800 enthält auch ein ausgeklügeltes Gashandhabungswerkzeug, das eine präzise Kontrolle der Gaszusammensetzung und des Drucks innerhalb der Kammer ermöglicht. Dies ist wesentlich für die Schaffung spezifischer Folienzusammensetzungen und Eigenschaften, da während des Abscheidungsprozesses unterschiedliche Gase eingebracht werden können, um die Folieneigenschaften zu modifizieren. Die Anlage ist mit Massendurchflussreglern und Druckmessgeräten ausgestattet, um genaue und reproduzierbare Gasdurchflussraten und -drücke zu gewährleisten. In Sachen Substrathandling bietet SHIBAURA MECHATRONICS CCS-2800 eine vielseitige Konfiguration für verschiedene Substratgrößen und -formen. Das Modell kann mit einem rotierenden Substrathalter ausgestattet werden, der eine gleichmäßige Beschichtung auf großflächigen Substraten ermöglicht. Darüber hinaus kann die Kammer mit Heiz- und Kühlfunktionen ausgestattet werden, um die Substrattemperatur während der Abscheidung zu steuern, was für die Optimierung der Filmhaftung und -morphologie entscheidend ist. CCS-2800 wird über eine benutzerfreundliche Schnittstelle gesteuert, mit der Bediener wichtige Prozessparameter wie Abscheiderate, Zielleistung, Gasdurchflussraten und Kammerdruck einstellen und überwachen können. Das Gerät verfügt auch über erweiterte Automatisierungsfunktionen, die eine rezeptbasierte Verarbeitung und Fernüberwachung und -steuerung ermöglichen. Dies erhöht nicht nur die Wiederholbarkeit und Konsistenz der Prozesse, sondern erhöht auch die Produktivität und Effizienz insgesamt. Insgesamt stellt das Sputtersystem SHIBAURA MECHATRONICS CCS-2800 eine hochmoderne Lösung für Dünnschichtabscheidungsanwendungen dar, die Hochleistungsbeschichtungen mit präziser Kontrolle der Filmeigenschaften erfordert. Seine fortschrittliche Technologie, zuverlässige Leistung und benutzerfreundliche Bedienung machen es zu einem wertvollen Werkzeug für Forschung und Entwicklung sowie Produktionsumgebungen in Branchen von der Halbleiterherstellung bis zu optischen Beschichtungen.