Gebraucht SHOWA SHINKU SIA 3000 #9192914 zu verkaufen

SHOWA SHINKU SIA 3000 ist eine hochmoderne Sputterausrüstung, die weit verbreitet für die Abscheidung von dünnen Schichten durch physikalische Dampfabscheidung (PVD) verwendet wird und hohe Abscheidungsraten aufweist. Sie eignet sich insbesondere zur Abscheidung von Nitrid- oder Oxidfilmen aufgrund ihres breiteren Arbeitsbereichs. Das System umfasst eine Plasmadrehquelle, die die Abscheidung von Folien mit gleichmäßiger Dicke und Zusammensetzung über einen weiten Bereich der Foliendicke ermöglicht. Es ist mit einem Ionenflussmonitor ausgestattet, der die Kontrolle der Abscheideraten und einen Quellleistungsstabilisator zur Aufrechterhaltung einer konsistenten Abscheiderate ermöglicht. Zusätzlich ist die Einheit je nach Art der aufzubringenden Folie entweder DC oder HF-Sputtern möglich. SIA 3000 wurde entwickelt, um eine präzise kontrollierte Umgebung für Substratvorreinigung und Sputtern zu schaffen. Die Kammer ist temperaturgeregelt, um optimale Abscheidebedingungen zu gewährleisten, und ihre integrierte Partikelentfernungsmaschine sorgt dafür, dass die Abscheidungsumgebung frei von Verunreinigungen ist. Das Werkzeug arbeitet mit einem Schnelltransferverschluss, der eine schnelle Abscheidung von Folien auf verschiedenen Substraten ermöglicht, darunter Metalle, Gläser, Polymere und Legierungen. Darüber hinaus sorgt seine magnetische Abschirmung auch bei hohen Drücken für Gleichmäßigkeit und Stabilität des Plasmas. Um eine gleichmäßige Dicke und Zusammensetzung der Folie zu gewährleisten, ist die Anlage mit einem Prozesssteuerungsmodell ausgestattet, das Abscheidungsparameter überwacht und anpasst. Die Ausrüstung bietet auch eine Auswahl an Zielen (feuerfeste, Legierung, Keramik und Verbundwerkstoffe), so dass die Flexibilität, eine Vielzahl von Folientypen abzulegen. Einer der größten Vorteile von SHOWA SHINKU SIA 3000 ist sein einfach zu bedienendes Betriebssystem. Es verfügt über eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche, die den Setup-Prozess vereinfacht und es einfach macht, Abscheidungsparameter zu programmieren. Darüber hinaus erleichtert die integrierte Kipp- und Drehfunktion die geeignete Positionierung des Substrats in der Kammer, um das gewünschte Abscheideprofil zu erreichen. Insgesamt ist SIA 3000 eine ausgezeichnete Wahl für die Abscheidung von dünnen Schichten durch physikalische Aufdampfung. Seine breite Palette von Merkmalen, wie seine Heizeinheit, Partikelentfernungsmaschine und Prozesssteuerungswerkzeug, machen es zu einem zuverlässigen Gut, das präzise und konsistente Abscheidung von verschiedenen Folientypen bieten kann.