Gebraucht SIGMA Sputtering System #193698 zu verkaufen

ID: 193698
Roll to roll sputtering system 8 Ball Vacuum Chamber & Chassis (2) CTI Model 1020CP Cold Head Cryo Pump (2) CTI Model 1020R Compressors Leybold RuVac WS500 Roots Blower Sliding Door Face Plate Sputtering system: RF Matching Networks Mass Flow Controllers Web system: (4) Black Max Motors & Gearboxes (Unwind, rewind, drum and tension drive) Chilled Drum Drum Motor Stand Control system: Human Machine Interface (HMI) - An operator touch-screen for manual and automated operations HMI - A Eurotherm Drives touchscreen for web control Eurotherm Control Cabinet & Network General Control Panel Utilities and accessories: Chiller Air Compressor Cathode Cooling Water Manifold Flexible Electric Trunking Valving: Roughing Vent and interlocks Cryo gate Cryo throttle Regeneration Purge Gauges: Convection gauges (low mtorr range) Baratron gauges Ion gauges Hydrogen vapor pressure gauges Tension drive, load cells and amplifiers Drum rotation motor and gearbox Rewind and unwind motors Gas system and control PLC card Signal connections Auto pumping Rewind and unwind control Plasma treater Sputtering controls: manual, regulate and direct mode RF control, DC control Maintenance mode Missing parts: Leybold DK200 rough pump (rotary piston pump) DK200 Gearbox (2) Cryo Throttle Valves (Butterfly Valves) (1) Cryo-pump gate valve (2) Hydrogen Vapor Pressure Gauges Ion Gauge Baratron Gauge (4) Convectron Gauges (6) Pneumatic Valves (regeneration valves for cryo pumps; purge valves for cryo pumps, rough pump Vent valves) Chamber Connecting Flange for Drum Feed-through Tension Roller Feed-through Unwind/Rewind Feed-through (6) DC Cathodes (40” x 6”) (6) MDX 5 KW sputtering power supplies Gas Control System Gas Lines (3) Load cells (3) Load Cell Amplifiers (1) Unwind/Rewind Shafts Steel Pressure Plate for Floor Gantry System and Crane (parts missing) Door Drive Train Side Steps to gain access to Cathodes Steel Ladder Mezzanine 480 V, 3 phase, approx. 1,000 A.
SIGMA Sputtering Equipment ist ein modernes, hochmodernes Sputtersystem, das zum Aufbringen dünner Filme auf ein Substrat entwickelt wurde. Es wird in einer Vielzahl von Anwendungen verwendet, wie Halbleiterbauelementherstellung, optische Beschichtungen, Forschung und Entwicklung, medizinische und viele andere Industrien. Die Einheit besteht aus einer kleinen Kammer, die mit Argongas gefüllt ist, und einer Stromversorgung mit variabler Spannungseinstellung. Innerhalb der Kammer wird ein Targetmaterial, wie Aluminium oder Titan, auf die Kathodenplatte aufgesetzt und zur Erzeugung eines Plasmas positiv geladen. Das Plasma erzeugt einen ionisierten Plasmastrom von Partikeln, die das Zielmaterial bombardieren und positiv geladene Ionen freisetzen. Diese Ionen werden dann von der negativ geladenen Substratoberfläche angezogen und Metallatome in einer dünnen Schicht auf das Substrat abgeschieden. SIGMA Sputtering Machine wird von einer ausgeklügelten Software-Suite gesteuert, mit der Anwender eine breite Palette von Parametern einstellen können, um optimale Ergebnisse zu erzielen. Benutzer können verschiedene Parameter anpassen, um das Werkzeug zu optimieren, wie die Abscheiderate, die Ionenkonzentration und die Abscheidungsgleichmäßigkeit im Laufe der Zeit. Die Software ermöglicht es Benutzern auch, die Abscheidungsrate zu überwachen und zu steuern, so dass sie nach Bedarf stoppen und starten können, ohne den endgültigen Abscheidungsprozess zu stören. Sputtering Asset verfügt auch über ein Trockenunterstützungs-Sputtermodell, das unerwünschte Partikel daran hindert, sich am Substrat anzubringen. Die Anlage ist mit einem Trockenätzen nach dem Prozeß ausgestattet, um die Ablagerungsschicht durch Entfernen von Partikeln oder Verunreinigungen, die sich auf der Substratoberfläche befinden können, weiter zu reinigen. Darüber hinaus bietet SIGMA Sputtersystem eine breite Palette von Zubehör, wie Beispielzuführer, Wafer-Handler, Kassetten und Vorrichtungen, unter anderem, die das Gerät vielseitiger machen. Insgesamt ist Sputtermaschine eine fortschrittliche und zuverlässige Lösung für Metallabscheidungsanwendungen. Es ist sehr anpassbar und bietet Benutzern eine Vielzahl von Parametern zur Auswahl, um die gewünschten Ergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus sorgen die Trockenhilfs- und Nachätzfunktionen für eine gleichmäßige und reine Abscheidungsschicht.
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