Gebraucht SYSTEM CONTROL TECHNOLOGY / SCT VS-18C #9120860 zu verkaufen

ID: 9120860
Wafergröße: 2"
Sputtering system, 2" Process gases: Ar Inlet pressure: 10 psig Flow rate: 100sccm Compressed air: Inlet pressure: 70-120 psig, Flow rate: minimal amounts, intermittent Gaseous nitrogen Inlet pressure: 10 psig Flow rate: 10cfm Cooling water: Inlet pressure: 40 psi (minimum differential) Fitting: 3/4”NPT Female Flow rate: 6 GPM Temp: 25°C (Max 40°C) Resistively: 2500 ohms/cm or higher at 25 deg C Solid content: <250ppm pH value: between 7 and 9 Total chlorine: <20ppm Total nitrate: <10ppm Total sulfate: <100ppm Total hardness expressed as calcium Carbonate equivalent: <250ppm Total dissolved solids: ≤ 640,000 / Specific resistivity (ohms/cm) Exhaust: Roughing pump Pressure: <ATM pressure Fitting: ISO-63 for Leybold dry pump Flow rate: 150cfm for Leybold dry pump 380 V, 3 phase, 50 Hz, > 30 amp, 5 wires including neutral and low “Z” ground.
Equipment CONTROL TECHNOLOGY/SCT VS-18C ist ein Hochleistungs-Kathodenzerstäubungssystem, das für den Einsatz in einer Vielzahl von Vakuum- und physikalischen Aufdampfanwendungen entwickelt wurde. Diese Sputtereinheit verwendet eine Gleichstrom (DC) -Magnetronquelle, um verdampfte Beschichtungsmaterialien zu erzeugen, die auf dem Substratmaterial haften. Die Maschine besteht aus einer kompakten und abgedichteten Abscheidekammer, die aus Kathode, Anode und Polaritätsschalter besteht. Sie umfasst ferner eine Reglereinheit, einen Hochdruckkammeranschluss und einen 25 mm beheizten Substrathalter, der Temperaturen bis 1000 Grad Celsius erreichen kann. SCT VS-18C kommt mit einer optionalen Controller Unit, die volle Werkzeugsteuerung, Überwachung und Lagerung von bis zu 16 individuellen Rezepten bietet. Diese Anlage wird für einen Vakuumbereich von 100 mTorr bis etwa 10 Torr mit einem ultimativen Vakuumdruck von 0,5 Torr bewertet. In Abhängigkeit von der Gleichspannungsleistung kann die Abscheiderate zwischen 0,01 und 10 nm/s eingestellt werden, ideal zur Erzeugung dünner Filme mit gleichmäßiger Oberfläche und Mikrostrukturen. Andere einstellbare Parameter reichen von Quelle über Substratabstand, Zielmaterial, Substrathalter Wärme und Drehzahl, um nur einige zu nennen. Model CONTROL TECHNOLOGY VS-18C bietet eine Auswahl von fünf verschiedenen geformten Zielen mit Größen von 2 „bis 10“, sodass Benutzer das optimale Ziel für ihre Anwendungen auswählen können. Darüber hinaus verfügt diese Sputteranlage über einen optionalen Hochdruckkammeranschluss, der die Abscheidung von Materialien bis zu 2bar ermöglicht. Der Substrathalter und der Aufzug sind mit allen Sensoren und automatisierten Steuerungen ausgestattet, um den sicheren Betrieb des Systems zu gewährleisten. VS-18C Gerät ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Forschungs- und Entwicklungsanwendungen konzipiert, darunter Metalllegierungen, Dünnschichtwiderstände, Röntgenbilder und andere Nanoanlagen. Es hat auch breite Anwendung in der Luft- und Raumfahrt und in der Industrie, die komplizierte Schichtabscheidung oder hohe Integrität Dichtungen erfordern. MACHINE CONTROL TECHNOLOGY/SCT VS-18C ist robust, vielseitig einsetzbar und in der Lage, einen kontinuierlichen Offenend-Betrieb durchzuführen, um eine breite Palette von Hochleistungs-Dünnschichtmaterialien zu unterstützen. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen ist SCT VS-18C eine großartige Lösung für diejenigen, die nach Präzision und hoher Abscheidegeschwindigkeit suchen.
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