Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Apollo HP #9226608 zu verkaufen

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ID: 9226608
Wafergröße: 6"-8"
Weinlese: 2010
Sputtering system, 6"-8" Standard vacuum end effector Thin wafer handling: Bernoulli end effector, 8"-12" Upgraded front end, 8"-12" Boost shield kit (2) Etch shield kits Constant etch Pressure Strike (CPS) Miscellaneous parts Backside gas option: 6" Kit: (2) ESC Non-removable rim (3) trays (2 sets of 3 trays) (2) Ground plane assemblies Etch elevator kit (2) ESC Removable rims (3) trays (2 sets of 3 trays), 12" Degas load lock ICP Etch chamber with 8” cryo Deposition chamber: (5) MAGNETRON Power supply: 20 kW Cryo, 8”-10" (2) Deposition chamber shields (2) Etch chamber shields B1 MAGNETRON for Ti Ni Loop MAGNETRONS for Ni (2) B1 MAGNETRON for AuSn B1 MAGNETRON for Au SECS / GEM Included Upgraded G1 MAGNETRON from K11007977 to K11208192 Magnetic array for G1 cathode G1 Spares Fully water sealed MAGNETRON assembly Etch chamber shields Depostion chamber shields (Non RF Bias) (2) ESC (3) Trays (3 trays/set), 6" in base system ESC Size kit, 8": Removable ESC trays, 8" (2 sets of 3 trays) (2) Ground plane assemblies Etch elevator kit T-Cool size kit, 8": T-Cool (3) trays, 8" (Two sets of (3) trays) (2) Ground plane assemblies Etch elevator kit (3) T-Cool (3) trays/set, 8" RF Bias / Stress control option RF Bias compatible shields 2010 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Apollo HP ist eine Hochleistungs-Sputteranlage, die für fortschrittliche Materialabscheidungsprozesse wie die Synthese hochwertiger Dünnschichten oder die Abscheidung von Spezialmaterialien entwickelt wurde. Dieses Sputtersystem besteht aus einem Vakuumgefäß, einer Sputterquelle, einer Substratstufe und Vakuumpumpen. Zu den Hauptmerkmalen des Geräts gehören ein hohes Maß an Kontrolle über alle Sputterparameter, ein breites Spektrum an Materialien und Zielgrößen sowie Flexibilität in Größe und Form des Substrats. Das Vakuumgefäß besteht aus Edelstahl und ist mit einer Öldiffusionspumpe verschlossen. Das Gefäß ist für bis zu drei Sputterquellkammern für mehrere Prozesskonfigurationen ausgelegt. Die Sputterquellen sind unabhängig voneinander verlaufend ausgebildet und gleichzeitig der Substratstufe zugewandt angeordnet. Sie bestehen aus Edelstahl und sind mit leistungsstarken HF- oder DC-Netzteilen ausgestattet. Die Quellenkonstruktion gewährleistet eine gleichmäßige Ionenbeschießung über die Substratoberfläche und eine gleichmäßige Filmabscheidung. Die Substratstufe ist für die Aufnahme von bis zu 12 Substraten ausgelegt, die verschiedene Formen aufweisen können, wie Kreise, Quadrate und Rechtecke. Die Stufe kann in zwei Richtungen bewegt werden, und ihre Neigung kann auch für eine optimale Foliendickengleichmäßigkeit eingestellt werden. Die Stufe ist mit einer einfach zu bedienenden XYZ-Bewegungsstufenverstellmaschine auf Mikrometer-Basis sowie mit selbstspülenden Düsen zur Reinigung und zur Steuerung der leichten Vakuumdruckschwankungen ausgestattet. Das Sputterwerkzeug wird von zwei Hochleistungs-Vakuumpumpen angetrieben. Diese Pumpen erübrigen die Notwendigkeit eines separaten Vakuummessgeräts und erleichtern die Erzielung einer optimalen Folienqualität. Die Pumpen halten ein stabiles Vakuum in der Kammer aufrecht und minimieren die Möglichkeit einer Target- oder Substratverschmutzung während des Prozesses. Die Pumpen sorgen zudem für Geräuschreduzierung und verhindern eine übermäßige Gasmobilität. TEL Apollo HP ist eine vielseitige, leistungsstarke Sputteranlage, die für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsprozessen eingesetzt werden kann. Mit seiner extrem hohen Steuerung, seiner Flexibilität in Größe und Form des Substrats und seinen Hochleistungs-Vakuumpumpen garantiert das Modell hervorragende Filmabscheidungsergebnisse.
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