Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Nexx #9207094 zu verkaufen

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ID: 9207094
Wafergröße: 12"
Sputtering system, 12" Loadport type: Porta 300, 12" EFEM Robot type: GENMARK GB7 (3L7S080297) Degas Tray type: T-cool RF Generator: ICP 3155031-029C RF Match (5) Magnetrons: Magnetron types: Ti (G1) TiW(G1) Cu (M4) Cu (M4) Cu (M4) 3152422-112V Magnetron power supply MFC Type: MFC1-Model: 1179A00422CR15V MFC2-Model: 1179A22CR15V EBARA A30W Dry pump Cryo pump (etch chamber): CTI-8F cryo pump, p/n: 8116199G001 Cryo pump (dep chamber): CTI-10F cryo pump, p/n: 8116164G002 Cryo pump side (dep chamber): CTI-8F Cryo pump, p/n: 8116199G001 Ion gauge (etch chamber): 354005-YE-T Baratron (etch chamber): 627BU5TDDIB Ion gauge (dep chamber): 354005-YE-T Baratron (dep chamber): 627BU5TDDIB.
TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nexx TEL ist eine Sputteranlage, die für die präzise Abscheidung von dünnen Filmen in einer Reihe verschiedener Anwendungen entwickelt wurde. Es verwendet ausgefeilte Algorithmen und Technologien, um hohe Gleichmäßigkeit und Zerstäubungsraten auf verschiedenen Arten von Substraten zu erreichen. TEL Nexx ist mit einer 2-Punkt-Sputterquelle, deckelfreien Substratspannfutter und einer berührungslosen Technik zur hochpräzisen Abscheidung ausgestattet. Das erste Merkmal des NEXX Nexx Sputtersystems ist die fortschrittliche Sputterpumptechnologie. Dieser Prozess wurde entwickelt, um die Sputterrate und Gleichmäßigkeit zu maximieren. Dazu ist Nexx mit einer reaktiv gekoppelten Magnetronquelle ausgestattet. Diese Technik erzeugt einen negativen Ionenstrahl, der dann auf das Substrat fokussiert wird. Dadurch entstehen gleichmäßige Folien auch beim Abscheiden auf großen Substraten. TOKYO ELECTRON Nexx sorgt auch für hochauflösende Bildgebung, so dass es die Gleichmäßigkeit der Abscheidung weiter verbessern kann. Ein weiteres einzigartiges Merkmal dieser Sputtereinheit ist ihre Fähigkeit, kontaktlose Abscheidung von dünnen Filmen zu erzeugen. TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nexx ist in der Lage, durch Anwendung einer Vakuum-Thermogradientententechnik gleichmäßige Folien auf Substraten ohne direkten Kontakt zu erzeugen. Durch dieses Verfahren entfällt das manuelle Aufbringen einer Folie auf das Substrat, wodurch das Verunreinigungspotenzial verringert wird. Darüber hinaus ist die Temperaturregelung von TEL Nexx für die Aufrechterhaltung von Niedertemperatursubstraten ausgelegt, die eine überlegene Filmgleichförmigkeit ermöglichen. NEXX Nexx verwendet auch ausgefeilte Algorithmen, die eine Prozessoptimierung und verbesserte Prozessstabilität ermöglichen. Es stehen anpassbare Rezepte zur Verfügung, die eine Auswahl optimaler Parameter für Kosten- und Zeitreduzierung ermöglichen. Darüber hinaus unterstützt Nexx eine breite Palette von Abscheidetechniken, so dass Benutzer Filme für eine Vielzahl von Anwendungen anpassen können. Abschließend bietet TOKYO ELECTRON Nexx eine hochmoderne Sputtermaschine, die eine überlegene Abscheidungsgleichmäßigkeit, Geschwindigkeit und Präzision bietet. Durch die Kombination fortschrittlicher Technologien mit einer intuitiven Benutzeroberfläche wurde TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nexx entwickelt, um konsistente Ergebnisse zu erzielen und die Anforderungen der heutigen Sputtertechnologie zu erfüllen. Ob für die industrielle oder akademische Forschung, TEL Nexx ist ein leistungsfähiges Werkzeug für die präzise Dünnschichtabscheidung.
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