Gebraucht ULVAC Ceraus Z-1000 #9156845 zu verkaufen

ULVAC Ceraus Z-1000
Hersteller
ULVAC
Modell
Ceraus Z-1000
ID: 9156845
Weinlese: 2002
Sputtering system 2002 vintage.
ULVAC Ceraus Z-1000 ist eine vielseitige Sputteranlage zum Ätzen und Abscheiden von Dünnschichtmaterialien. Das Z-1000 ist mit einer Vielzahl von Komponenten und Merkmalen ausgestattet, die eine Vielzahl von Materialien und Prozessen ermöglichen. Es bietet eine hohe Gleichmäßigkeit mit einer Wiederholbarkeit von ± 2% und eine hervorragende Gleichmäßigkeit der Schicht mit einer relativen Varianz von < 2%. Das System ist in der Halbleiter- und optoelektronischen Industrie für die Abscheidung von Oxiden, Nitriden, leitenden Metallfilmen und Metallen wie Kupfer, Gold und Aluminiumlegierungen auf Substraten weit verbreitet. Die Sputtereinheit verwendet stückweise DC-Ätzen, um hochauflösende Folien mit gleichmäßiger Flächendeckung zu erhalten. Es verfügt über einen Niedertemperatursputterprozess und ermöglicht eine hochpräzise Kontrolle der Abscheiderate und Gleichmäßigkeit. Das Z-1000 verfügt außerdem über ein Hochvakuum, das für ein optimales Sputtern unerlässlich ist, und enthält eine Ionenstromquelle, die eine präzise Kontrolle über das Beschießen von Partikeln mit dem Substrat ermöglicht. Das Z-1000 ist in der Lage, Metalle, Legierungen und Oxide abzuscheiden, und kann eine Vielzahl von Substratmaterialien verarbeiten, einschließlich Silizium, Quarz, Quarzglas und mehr. Es ermöglicht einen einstellbaren Druckbereich von 1 x 10-5 bis 8 x 10-1 hPa und kann eine maximale Substratvorspannung von 10-200V dc bieten. Die Maschine verfügt über 9 Zoll bis 12 Zoll Waferorientierungen, so dass eine Vielzahl von Wafergrößen verwendet werden kann. Es verfügt auch über Temperaturregelung zwischen 2 ° C und 130 ° C, und einem Sputterleistungsbereich von 50-550 W. Ceraus Z-1000 einen Arbeitsabstand von 360mm zum gleichzeitigen Be- und Entladen von Substraten aufweist, und kommt mit einer Oerlikon Leybold Trockenpumpe, die maximale Vakuumwerte von < 4x10-7 Pa. erreichen kann. Das Werkzeug wird mit einem Auto Wafer Loader und Load Lock geliefert und bietet ein vereinfachtes und automatisiertes Be- und Entladen von Substraten. Die integrierte Windows-basierte Software kann alle Daten im Zusammenhang mit der Verarbeitung überwachen und aufzeichnen und helfen, notwendige Parameter wie Substrattemperatur, Sputterleistung, Drehzahl und mehr zu optimieren. Die Software ermöglicht es Kunden auch, mehrere Verarbeitungsbedingungen für eine spätere Verwendung einzurichten und zu speichern. Insgesamt ist ULVAC Ceraus Z-1000 Sputteranlage für das Ätzen und Abscheiden von dünnen Schichten auf Substraten ausgelegt und vielseitig genug, um eine Vielzahl von Materialien und Prozessen zu verwalten. Seine fortschrittlichen Eigenschaften, einschließlich Tieftemperaturverarbeitung, einstellbarer Vakuumspiegel und automatisierter Substratbelastung, machen das Z-1000 zu einer idealen Wahl für die Sputterabscheidung und das Ätzen von Oxiden, Metallen und Legierungen.
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