Gebraucht ULVAC CERAUS ZI 1000 #9378914 zu verkaufen
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ID: 9378914
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
Sputtering system, 8"
CIM: SEMI Auto to CTC
Sputter Zi (LTS with sputter etcher)
PF
(6) Chambers
Transfer, LLA And LLB Chamber
P1 - ICP Etcher
P2 - Degas
P3 - ICP Etcher
P4 - LTS (Ti/TiN)
P5 - LTS (Ti/TiN)
P6 - LTS (Ti/TiN)
Loadlocks:
LLA VCE4, (30) Metal stocker slots
LLB VCE4, (30) Metal stocker slots
Hardware configuration:
Chamber 1: ICP
Chamber 2: Degas
Chamber 3: ICP
Chamber 4: LTS
Chamber 5: LTS
Chamber 6: LTS
In-aligner
In-cooler
Mainframe: BROOKS M800
Wafer mapping: Standard
Transfer MAG 7.1 Robot
Transfer armset MAG 6
3-Axis Bi-symmetric dual frogleg
ULVAC C30ZR Helium compressor
RISSHI CS-1700H Chiller
Handler System
Cables
Metal cover
Power supply rack
Computer with rack
Pump
Front panel
Raise platform & accessories
Process:
Chamber 1: Etch
Chamber 2: Degas
Chamber 3: Etch
Chamber 4: Ti/TiN dep
Chamber 5: Ti/TiN dep
Chamber 6: Ti/TiN dep
Wafer notch alignment
Cooler
Generators:
Chamber 1: DC 1, DC 2, ULVAC RFS05C, RF, AC Bias
Chamber 2: DC 1, DC 2, RF, AC Bias
Chamber 3: DC 1, DC 2, RF ULVAC RFS05C, AC Bias
Chamber 4: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Chamber 5: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Chamber 6: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Turbo pumps:
SHIMADZU 303LM
SHIMADZU 303LM
SHIMADZU 403LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
1998 vintage.
ULVAC CERAUS ZI 1000 ist eine Sputterausrüstung von ULVAC (Ultra-Low Vacuum Apparatus Corporation), einem führenden Hightech-Hersteller von Vakuumbeschichtungsanlagen. Dieses System verwendet ein keramisches Target und ein ionisiertes Inertgas wie Ar oder He, um eine Vielzahl von Materialien mit einer Schicht aus gewünschtem Material zu beschichten. Das Target wird in eine Vakuumkammer gelegt, und Ionen werden durch eine leistungsstarke modulierte Spannungsquelle zum Target hin beschleunigt. Durch die Kollision der beschleunigten Ionen mit dem Target entsteht eine Atmosphäre von nanogroßen Partikeln, wodurch das Beschichtungsmaterial präzise auf dem beobachteten Substrat haften kann. ULVAC CERAUS ZI-1000 bietet einzigartige Leistungsmerkmale, die es von anderen Sputtersystemen abheben. Die fortschrittliche Temperaturregeleinheit ermöglicht eine präzise Temperaturregelung und stabile Arbeitsabläufe auch bei längeren Betriebsabläufen. Dies trägt dazu bei, dass die Beschichtung während des gesamten Prozesses konsistent ist. Es verfügt auch über eine Vorzündmaschine, die Anlaufzeiten reduziert und die Effizienz verbessert. Das Werkzeug ist für eine gleichmäßige Abscheidung des Beschichtungsmaterials mit hoher Gleichmäßigkeit und ausgezeichneter Partikeldichte über das gesamte Substrat ausgelegt. CERAUS ZI 1000 verfügt über eine integrierte Vakuumanlage, die eine Niederdruckabscheidung ermöglicht. Dieses Modell hat ein maximales Vakuum von 1 x 10-3 Torr, wodurch sich das Beschichtungsmaterial in einer effizienteren Geraden zum Substrat hin bewegen kann, was eine größere Kontrolle über die Schichtdicke ermöglicht. Es verfügt auch über Wasser- und Sicherheitsverriegelungen und ein Laser behindert, um die Sicherheit zu gewährleisten. CERAUS ZI-1000 ist in der Lage, hervorragende Ergebnisse in allen Arten von reaktiven Sputtern und thermischen Verdampfungsanwendungen zu erzielen. Es eignet sich ideal für präzise Beschichtungen auf verschiedensten Substraten, von Polymeren bis hin zu hochempfindlichen Halbleitern. Es ist bekannt für seine zuverlässige Herstellung und überlegene Leistung, so dass es perfekt für eine breite Palette von industriellen Anwendungen.
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