Gebraucht ULVAC CERAUS ZI 1000 #9378914 zu verkaufen

Hersteller
ULVAC
Modell
CERAUS ZI 1000
ID: 9378914
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
Sputtering system, 8" CIM: SEMI Auto to CTC Sputter Zi (LTS with sputter etcher) PF (6) Chambers Transfer, LLA And LLB Chamber P1 - ICP Etcher P2 - Degas P3 - ICP Etcher P4 - LTS (Ti/TiN) P5 - LTS (Ti/TiN) P6 - LTS (Ti/TiN) Loadlocks: LLA VCE4, (30) Metal stocker slots LLB VCE4, (30) Metal stocker slots Hardware configuration: Chamber 1: ICP Chamber 2: Degas Chamber 3: ICP Chamber 4: LTS Chamber 5: LTS Chamber 6: LTS In-aligner In-cooler Mainframe: BROOKS M800 Wafer mapping: Standard Transfer MAG 7.1 Robot Transfer armset MAG 6 3-Axis Bi-symmetric dual frogleg ULVAC C30ZR Helium compressor RISSHI CS-1700H Chiller Handler System Cables Metal cover Power supply rack Computer with rack Pump Front panel Raise platform & accessories Process: Chamber 1: Etch Chamber 2: Degas Chamber 3: Etch Chamber 4: Ti/TiN dep Chamber 5: Ti/TiN dep Chamber 6: Ti/TiN dep Wafer notch alignment Cooler Generators: Chamber 1: DC 1, DC 2, ULVAC RFS05C, RF, AC Bias Chamber 2: DC 1, DC 2, RF, AC Bias Chamber 3: DC 1, DC 2, RF ULVAC RFS05C, AC Bias Chamber 4: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi Chamber 5: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi Chamber 6: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi Turbo pumps: SHIMADZU 303LM SHIMADZU 303LM SHIMADZU 403LM SHIMADZU 1003LM SHIMADZU 1003LM SHIMADZU 1003LM SHIMADZU 1003LM SHIMADZU 1003LM 1998 vintage.
ULVAC CERAUS ZI 1000 ist eine Sputterausrüstung von ULVAC (Ultra-Low Vacuum Apparatus Corporation), einem führenden Hightech-Hersteller von Vakuumbeschichtungsanlagen. Dieses System verwendet ein keramisches Target und ein ionisiertes Inertgas wie Ar oder He, um eine Vielzahl von Materialien mit einer Schicht aus gewünschtem Material zu beschichten. Das Target wird in eine Vakuumkammer gelegt, und Ionen werden durch eine leistungsstarke modulierte Spannungsquelle zum Target hin beschleunigt. Durch die Kollision der beschleunigten Ionen mit dem Target entsteht eine Atmosphäre von nanogroßen Partikeln, wodurch das Beschichtungsmaterial präzise auf dem beobachteten Substrat haften kann. ULVAC CERAUS ZI-1000 bietet einzigartige Leistungsmerkmale, die es von anderen Sputtersystemen abheben. Die fortschrittliche Temperaturregeleinheit ermöglicht eine präzise Temperaturregelung und stabile Arbeitsabläufe auch bei längeren Betriebsabläufen. Dies trägt dazu bei, dass die Beschichtung während des gesamten Prozesses konsistent ist. Es verfügt auch über eine Vorzündmaschine, die Anlaufzeiten reduziert und die Effizienz verbessert. Das Werkzeug ist für eine gleichmäßige Abscheidung des Beschichtungsmaterials mit hoher Gleichmäßigkeit und ausgezeichneter Partikeldichte über das gesamte Substrat ausgelegt. CERAUS ZI 1000 verfügt über eine integrierte Vakuumanlage, die eine Niederdruckabscheidung ermöglicht. Dieses Modell hat ein maximales Vakuum von 1 x 10-3 Torr, wodurch sich das Beschichtungsmaterial in einer effizienteren Geraden zum Substrat hin bewegen kann, was eine größere Kontrolle über die Schichtdicke ermöglicht. Es verfügt auch über Wasser- und Sicherheitsverriegelungen und ein Laser behindert, um die Sicherheit zu gewährleisten. CERAUS ZI-1000 ist in der Lage, hervorragende Ergebnisse in allen Arten von reaktiven Sputtern und thermischen Verdampfungsanwendungen zu erzielen. Es eignet sich ideal für präzise Beschichtungen auf verschiedensten Substraten, von Polymeren bis hin zu hochempfindlichen Halbleitern. Es ist bekannt für seine zuverlässige Herstellung und überlegene Leistung, so dass es perfekt für eine breite Palette von industriellen Anwendungen.
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