Gebraucht ULVAC Ceraus ZX-1000 #9078343 zu verkaufen

ULVAC Ceraus ZX-1000
Hersteller
ULVAC
Modell
Ceraus ZX-1000
ID: 9078343
Metal PVD sputtering system.
ULVAC Ceraus ZX-1000 Sputtering Equipment wird für Anwendungen wie physikalische Dampfabscheidung, explosive Verdampfung und plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung eingesetzt. Sein großflächiges Design mit drei Zielen ermöglicht Hochgeschwindigkeitssputtern, um eine überlegene Filmgleichförmigkeit zu ermöglichen und ermöglicht die Abscheidung über große Substratgrößen. Es ist ein vollautomatisierter Prozess, der sich an anspruchsvolle dicke Sequenzen anpasst. ULVAC CERAUS ZX 1000 Sputtersystem umfasst eine Ultra-Hochvakuumkammer, die Drücke bis zu 1x10-6 Pa. erreichen kann. Dieses hohe Vakuum ist notwendig, um eine qualitativ hochwertige Abscheidung zu gewährleisten. Die Kammer ist mit einem emissionsarmen, linear induktiven Magnetron und einem dreifachen Target ausgestattet. Das linearinduktive Magnetron ermöglicht eine Abscheidung bei niedrigeren Temperaturen als bei anderen Geräten und kann gleichzeitig großflächig eine gleichmäßige Abscheidung aufrechterhalten. Die dreifache Zielkonfiguration ermöglicht unterschiedliche Abscheidegeschwindigkeiten über jedes der drei Ziele und bietet eine überlegene Gleichmäßigkeit. Auch bei anspruchsvollen Materialien und Strukturen bietet das ZX-1000 eine hervorragende Abscheidungsgleichmäßigkeit. Das Gerät kann auch flexible Substrate bis zu einer Größe von 100mm x 150mm sowie größere Substrate bis zu 1000mm ² verarbeiten. Ein einzigartiges Merkmal des ZX-1000 ist seine hochkonfigurierbare Gasfördermaschine, die verschiedene Abscheidungsprozesse ermöglicht, wie plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung und reaktives Sputtern. Das Werkzeug ermöglicht auch eine breite Palette von Prozessparametern, wie die Steuerung der Ziel-Vorspannung, Substrattemperatur, Kathodenspannung, Substratvorspannung und Ausgasung. Ceraus ZX-1000 Sputtering Asset bietet überlegene Qualität und Einheitlichkeit und ist in der Lage, komplexe Abscheideprozesse durchzuführen, was es ideal für Anwendungen macht, die eine präzise Abscheidung von dünnen Schichten und Strukturen erfordern. Seine fortschrittlichen Eigenschaften machen es zu einem leistungsstarken Werkzeug für die Produktion von Dünnschicht-optischen Beschichtungen, Dünnschicht-Solarzellen, Laserdioden, Sensoren und anderen Geräten.
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