Gebraucht ULVAC Ceraus ZX-1000 #9270490 zu verkaufen

ULVAC Ceraus ZX-1000 ist eine fortschrittliche, präzise Sputterausrüstung für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Dünnschichtabscheidung und Strukturierung, Nanostrukturherstellung und Sputterreinigung. Das System besteht aus einer Vakuumkammer, einer RF/DC-Stromquelle, einer RF/DC-Sputterpistole und einem Gaskasten. Die Vakuumkammer von ULVAC CERAUS ZX 1000 wurde entwickelt, um ultrahohe Vakuumwerte zu erreichen. Es ist mit einem Edelstahlrahmen und zwei Aussichtspunkten konstruiert, die die Anzeige während des Sputtervorgangs ermöglichen. Die Kammer verfügt über eine eingebaute Turbopumpeinheit und einen Manometer, der eine einfache Überwachung des Kammerdrucks während des Zerstäubungsprozesses ermöglicht. Innerhalb der Kammer befinden sich zwei Regale zur Aufnahme der zu zerstäubenden Substrate. Die Regale können bis zu vier 4 "-Wafer gleichzeitig aufnehmen. Die HF/DC-Stromquelle ermöglicht eine präzise Steuerung des Sputterprozesses. Es ermöglicht eine unabhängige Steuerung der HF- und DC-Spannung, der Pulsfrequenz und der Pulsbreite, was eine Feineinstellung und optimierte Prozessbedingungen ermöglicht. Die HF/DC-Stromquelle kann bis zu vier Ziele gleichzeitig steuern. Die RF/DC Sputterpistole ist für die Abscheidung auf flachen und gekrümmten Oberflächen ausgelegt. Es ist mit einer Ionenquelle zum Ionenätzen ausgestattet, die eine präzise Kontrolle der Materialabfuhr ermöglicht. Das einzigartige Design der Sputterpistole ermöglicht ein tiefes Sputterätzen und eine effiziente Beschichtung großer Flächen. Schließlich bietet der Gaskasten eine präzise Steuerung der Strömung von inerten Gasen, so dass der Benutzer eine ideale Atmosphäre für den Sputterprozess zu schaffen. Der Gaskasten verfügt auch über einen Sicherheitsschalter, so dass der Benutzer das Gas im Notfall schnell abstellen kann. Zusammenfassend ist Ceraus ZX-1000 eine fortschrittliche Sputtermaschine für präzise Dünnschichtabscheidung, Strukturierung, Nanostrukturherstellung und Sputterreinigung. Es besteht aus einer Vakuumkammer, einer RF/DC-Stromquelle, einer RF/DC-Sputterpistole und einem Gaskasten, die alle eine präzise Kontrolle über den Sputterprozess ermöglichen.