Gebraucht ULVAC Ceraus #154325 zu verkaufen

Hersteller
ULVAC
Modell
Ceraus
ID: 154325
Weinlese: 2000
Sputtering systems Chambers: 4: (2) Al, (2) TiN Monitor racks: 2 Ar gas purifier Compressor Pump rack Power rack Signal cables and DC cables 2000 vintage.
ULVAC Ceraus ist eine Sputteranlage zur Dünnschichtabscheidung und Geräteherstellung. Das System besteht aus vier Hauptkomponenten: einer Vakuumkammer, einer Ultrahochvakuumpumpe (UHV), einer Fernsputterquelle und einer Stromquelle. Die Vakuumkammer ist Hauptbestandteil einer Ceraus-Einheit und ist die große, luftdichte Metallbox, in der das Substrat während des Abscheidungsprozesses platziert wird. Es besteht aus einem zylindrischen Rohr mit einem abnehmbaren Deckel und enthält Trennventile, einen Manometer und einen Aussichtspunkt. Die Trennventile bieten Zugang zu anderen Komponenten in der Maschine, während der Manometer und der Viewport zur Überwachung des Vakuumniveaus und der Prozessbedingungen in der Kammer verwendet werden. Die Ultrahochvakuumpumpe (UHV) wird verwendet, um den Druck innerhalb der Kammer zu reduzieren und eventuelle Restgase zu evakuieren. Die UHV-Pumpe erzeugt ein Vakuum, das dann durch eine Kombination von Primär-, Sekundär- und Tertiärpumpen aufrechterhalten wird. Die entfernte Sputterquelle ist eine Plasmaeinrichtung mit einer Anode und einer Kathode, die mit einer Spannungsquelle verbunden ist. Es besteht aus einem magnetischen Werkzeug, das die Kontrolle des Plasmas ermöglicht. Die entfernte Sputterquelle dient dazu, dünne Filme kontrolliert auf dem Substrat abzuscheiden. Die Stromquelle dient zur Bereitstellung der für den Sputterprozess benötigten Spannung. Es kann in Form von DC, RF oder gepulstem DC vorliegen. ULVAC Ceraus Sputtersysteme sind in der Lage, dünne Filme aus einer Vielzahl von Materialien abzuscheiden, darunter Metalle, Legierungen, Halbleiterverbindungen und dielektrische Schichten. Das Asset wird in Anwendungen wie photonischen Geräten, Flachbildschirmkomponenten, Solarzellen und Dünnschichtbeschichtungen eingesetzt. Das Steuermodell ermöglicht eine präzise Steuerung des Abscheideprozesses, wodurch es für die High-End-Fertigung geeignet ist.
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