Gebraucht ULVAC Ei-5K #9302604 zu verkaufen

Die Sputteranlage ULVAC Ei-5K ist ein hochmodernes Abscheidesystem zur Erzeugung hochwertiger dünner und dicker Folien. Es kombiniert traditionelle und neuartige Beschichtungstechnologien, die es ermöglichen, mit einer Vielzahl von Materialien zu arbeiten, einschließlich Metallen, Oxiden, Nitriden, Karbiden und Siliziden. ULVAC EI 5 K ist ideal für Anwendungen, die hohe Präzision, extrem niedrige Wärmemassenabscheidung und hohe Abscheidungsraten erfordern. Ei-5K ist mit einer Reihe von Substraten, einschließlich Aluminium, Molybdän, Kupfer, Chrom, Titan, Aluminiumoxid und Quarz. Diese Sputtereinheit ist mit ULVAC E-line RF/ICP-Quellen ausgestattet, die eine Optimierung über eine Vielzahl von Sputterbedingungen ermöglichen. Die Maschine kann auch eine breite Palette von Schilden, wie E-Shield und E-coat. EI 5 K bietet Doppelkammerbetrieb, der die Abscheidung komplexer Materialien mit hohem Durchsatz ermöglicht. Magnetronquelle und Substratstufe können in entgegengesetzte Richtungen konfiguriert werden, so dass unabhängige bidirektionale Sputter. Darüber hinaus nimmt das Werkzeug mehrere Ziele auf, die von einem einzigen Target pro Kammer bis zu mehreren Targets pro Kammer reichen. ULVAC Ei-5K ist in der Lage, hochwertige Folien aus verschiedenen Materialien unter Berücksichtigung der verschiedenen Parameter wie Druck, Abscheiderate, Temperatur und Ätzrate zu produzieren. Für überlegene Leistung verfügt ULVAC EI 5 K über eine dynamische Plasmakontrolle, die Echtzeit-Überwachung und Regelung der Soll-Durchflussrate, Leistung und/oder Substratvorspannung bietet. Ei-5K ist auch mit einem Abscheidemonitor-Steuermodell ausgestattet, das eine genaue Überwachung aller Elemente des Prozesses wie Dicke, Abscheidegeschwindigkeit und Atomgehalt der Folien ermöglicht. Dieses Gerät bietet dem Benutzer auch eine grafische Benutzeroberfläche für eine einfache Prozesseinrichtung. Abschließend ist das EI 5 K Sputtersystem ein hervorragendes Instrument zur Abscheidung von hochwertigen dünnen und dicken Folien. Es bietet eine breite Palette von Substratoptionen und -zielen, dynamische Plasmasteuerung und genaue Abscheidungsüberwachung. Dies macht ULVAC Ei-5K zu einer idealen Wahl für Sputteranwendungen, die Präzision und extrem niedrige Wärmemassenabscheidung erfordern.