Gebraucht ULVAC EI-7K #9364551 zu verkaufen

ULVAC EI-7K ist eine Sputteranlage mit Plasma-Technologien entwickelt, um hohe Ausbeute, hohe Qualität kontinuierliche Produktion Sputtern bieten. Es wurde entwickelt, um den Anforderungen fortschrittlicher Forschung und Entwicklung sowie Massenproduktionsumgebungen gerecht zu werden. ULVAC EI 7 K nutzt die Lichtbogenentladungserscheinung elektromagnetischer Phänomene, um ein partikel-/ionisiertes Gas aus dem Zielmaterial und dem verwendeten Sputtergas zu erzeugen. Dieses ionisierte Plasma wird dann auf die Substratprobe gerichtet, die in einer Vakuumkammer eingeschlossen ist. EI-7K verfügt über eine breite Palette von Leistungsoptionen von Standard-DC-Sputtern bis hin zu Hochfrequenz-Pulssputtertechniken. Die DC-Leistungsoptionen reichen von Mikro-Ampere-Ebene bis hin zu -Ampere-Ebene. Pulsleistungsoptionen sind bis zu zehn Kilowatt Spitzenleistung verfügbar. EI 7 K bietet auch verschiedene Zielformen und -größen, einschließlich flacher und drehbarer Ziele. Es ist auch mit einem elektrostatischen Spannfutter für die Substratbefestigung ausgestattet und bietet Möglichkeiten zur Temperaturregelung und andere Besonderheiten. ULVAC EI-7K bietet präzise Steuerung und Automatisierung im Betrieb und ermöglicht eine präzise Steuerung der Sputterrate. Das System kann mit hohen Geschwindigkeiten von bis zu 250 nm/s sputtern und dabei die geforderte Oberflächenqualität beibehalten. Es ist auch darauf ausgelegt, die Reibung zwischen der Zieloberfläche und dem Substrat zu minimieren, um Verschmutzungen zu reduzieren und einen hochwertigen Film zu gewährleisten. ULVAC EI 7 K bietet hohe Gleichmäßigkeit und Homogenität für das gesputterte Material. Das Gerät ist so ausgelegt, dass es eine präzise Kontrolle der Abscheiderate, Dicke und Gleichmäßigkeit über den Bereich des Substrats ermöglicht. Es verfügt auch über eine Vielzahl von Detektionssystemen, um das beschichtete Substrat auszuwerten und eventuell beschädigte Proben während des Prozesses zu erkennen. EI-7K ist eine zuverlässige und vielseitige Sputtermaschine, die sowohl für Forschung und Entwicklung als auch für Massenproduktionsumgebungen geeignet ist. Mit seinen Präzisionskontrollfunktionen, der hohen Sputterrate und den anpassbaren Funktionen eignet sich EI 7 K gut für jede Aufgabe, die höchste Leistung erfordert und gleichzeitig höchste Qualität gewährleistet.