Gebraucht ULVAC Entron EX W300 #293587264 zu verkaufen
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ID: 293587264
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2012
Multi-chamber sputtering system. 12"
(8) Chambers
2012 vintage.
ULVAC Entron EX W300 ist eine leistungsstarke und vielseitige Hochleistungs-Sputterausrüstung für anspruchsvolle Sputter-Abscheidungsanwendungen. Seine fortschrittliche Technologie bietet hohe Gleichmäßigkeit, optimale Prozesskontrolle und überlegene Wiederholbarkeit für überlegene Dünnschichtbeschichtungsleistung. ULVAC ENTRON-EX W300 verfügt über zwei Sputterquellen, die beide gleichzeitig in einer UHV-Kammer abscheiden können. Die Quellen können unabhängig oder im Tandem zum koaxialen Sputtern von zwei unterschiedlichen Materialien gleichzeitig verwendet werden. Jede Quelle verfügt über eine temperierte Sputterkathode und eine programmierbare Waferstufe für Ein- oder Zweizielgeschütze. ENTRON EX W 300 Sputtersystem bietet auch überlegene Wiederholbarkeit und hohe Prozessgleichförmigkeit. Das Design des Geräts ermöglicht vier verschiedene Konfigurationen, die auf den Prozessanforderungen des Benutzers basieren. Es kann programmiert werden, um die Mediendrehung, den Gasfluss und die Temperatureinstellungen mit einer hohen Genauigkeit und Präzision automatisch zu steuern. Benutzer können auch die Maschinenparameter und -einstellungen anpassen, um die Werkzeugleistung individuell zu aktualisieren. Weitere Hauptmerkmale sind: Endpunkterkennung, Materialkartierung, Nonglass-Maskenhandhabung und Temperaturkontrolle. Darüber hinaus ist ENTRON-EX W300 mit einer integrierten Kühlmittel-Rückkopplungsschleife und Temperatursensoren zur Überwachung und Einstellung der Umgebungstemperatur innerhalb der Kammer ausgelegt. Dadurch wird sichergestellt, dass die gesputterten Dünnschichtschichten die beste Haftung, Gleichmäßigkeit und Konsistenz erzielen, wobei darauf geachtet wird, dass die Kammer jederzeit unter thermischer Kontrolle steht. Das Asset bietet auch eine Reihe von Automatisierungsoptionen und erweiterte Steuerungsfunktionen, wie Auto-Rezept, Edge-Sputtering, programmierbare Ziel-Bias und mehrere Wafer-Deposition. Entron EX W300 kann für eine Vielzahl von Dünnschichtanwendungen konfiguriert werden, einschließlich optoelektronischer, fortschrittlicher Substrate und Halbleiterbauelemente. Insgesamt ist ULVAC ENTRON EX W300 Sputtermodell eine ausgezeichnete Wahl für hohe Rate, einheitliche und wiederholbare Abscheidungsanwendungen. Seine fortschrittliche Automatisierung, hervorragende Leistung und Flexibilität machen es zu einer idealen Lösung für Dünnschichtabscheidungsprozesse, die höchste Prozesskontrolle erfordern.
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