Gebraucht ULVAC Entron EX W300T #293815144 zu verkaufen

ULVAC Entron EX W300T
ID: 293815144
PVD System.
ULVAC Entron EX W300T ist ein leistungsstarkes und effizientes Sputtersystem für optimale Leistung in der Silizium-Waferbearbeitung. Es ist ein einzelner Wafer, einseitige Bearbeitungsausrüstung für Sputterabscheidung von dünnen Filmen. Das System verfügt über eine 300 mm Waferstufe mit einem unteren Substrathaltertemperaturbereich von -70 bis 400 Grad Celsius. Es hat eine horizontale Abscheidekammer mit einer Sechs-Ziel-Konstruktion, die bis zu fünf Ziele aufnehmen kann, zusammen mit einem Wafer-Sockel oder Vorrichtung. Seine Targets sind in der horizontalen Drehkonfiguration gelagert, um eine gleichmäßige Abscheidung von dünnen Filmen zu ermöglichen. Es verfügt über ein programmierbares Hochleistungs-HF-Netzteil mit einer maximalen Leistung von bis zu 2000W für einfaches und genaues Sputterstrippen des Wafers. Es ist mit einem hochauflösenden Klingenschaber und einer Dichtungsdichtungseinheit für zuverlässige Ätz- und Folienqualität ausgestattet. Es verfügt über eine Gas- und Drucksteuerungsmaschine, die mit der Prozesssteuerungssoftware für bessere Folieneigenschaften integriert ist. Das Werkzeug verfügt über eine Hochvakuumfilteranlage für automatisierte Abscheideprozesse. Es ist mit einem kundenspezifischen oberen und unteren elektrostatischen Spannfutter für die einfache Handhabung von ultradünnen Wafern ausgestattet. Es verfügt über ein fortschrittliches Wafermessmodell, das es dem Benutzer ermöglicht, die Dicke und Gleichmäßigkeit der abgeschiedenen Folien zu messen. Entron EX W300T ist auf einfache Wartung und langfristige Zuverlässigkeit ausgelegt. Es verfügt auch über eine optionale Lastverriegelungsausrüstung, die einen schnellen und einfachen Zugang zum Laden und Entfernen von Proben ermöglicht. Insgesamt ist ULVAC Entron EX W300T ein hervorragendes Sputtersystem für Siliziumwafer. Es bietet eine schnelle und effiziente Verarbeitung in der Dünnschichtabscheidung und bietet einzigartige Funktionen wie programmierbare HF-Stromversorgung, hochauflösende Schaufelschaber und Gassteuerung sowie automatisierte Abscheidungssteuerung und Messsysteme zur präzisen Steuerung von Filmen und gleichmäßiger Abscheidung.
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