Gebraucht ULVAC SCH-135A #9162023 zu verkaufen

ULVAC SCH-135A ist eine Sputterabscheidungsanlage zur Herstellung von dünnen Folien, Beschichtungen und Schutzschichten. Es beinhaltet die Verwendung von Ionen-Pistolen-Sputtertechnologie zur Herstellung von High-End-Spezialfolien, die die Abscheidung von Folien mit überlegener Haftung und überlegener Kompatibilität mit Substraten ermöglichen. SCH-135A System ist eine hochkonfigurierbare Einheit, die sich gut für die Forschung und Produktion von Filmen mit atomarer Präzision eignet. Zu den Kernkomponenten gehören eine Ionenpistole, eine Sputterpistole, eine Vakuumpumpe und eine Substratübertragungsmaschine. Die Ion Gun wurde entwickelt, um energiereiche Ionen zu erzeugen, die auf eine metallbeschichtete Kathodenoberfläche der Sputterpistole gelenkt werden. Die metallbeschichtete Kathode wird von den Ionen bombardiert, wodurch Atome aus der metallbeschichteten Kathode gesputtert werden. Diese Folien werden durch die Hochfrequenz-Stromversorgung der Kammer gleichmäßig auf das Substrat abgeschieden. Die Sputterpistole ist mit einem einstellbaren Magnetfeld ausgestattet, das eine Feinabstimmung des Sputterprozesses ermöglicht. Dieses einstellbare Magnetfeld hilft dabei, die Ionenrückstreuung zu minimieren und Ionenenergieverluste auf der Oberfläche des Substrats zu minimieren. Das CH-135A Werkzeug enthält auch einen großen Substrathalter, der große Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 500 mm aufnehmen kann. Die Vakuumpumpe erfaßt und hält den Vakuumdruck innerhalb der Abscheidekammer aufrecht. Die Vakuumbewertung der Anlage beträgt 10 5 Pascal und der Druck wird kontinuierlich überwacht und angepasst, um den Abscheidungsprozess zu optimieren. ULVAC SCH-135A verfügt auch über ein vollautomatisches Substratübertragungsmodell, das eine sichere Übertragung von Substraten zwischen dem Substrathalter und der Abscheidekammer ermöglicht, wodurch die manuelle Übertragung von Substraten entfällt Insgesamt ist SCH-135A Form ULVAC eine High-End-Sputterausrüstung, die für eine kontrollierte und konsistente Abscheidung von dünnen Filmen konzipiert ist. Seine Kernkomponenten, einschließlich Ionenpistole, Sputterpistole, Vakuumpumpe und Substrathalter, bieten Benutzern eine hohe Kontrolle und Präzision über den Sputterprozess.