Gebraucht ULVAC SH-450H-C10 #9313937 zu verkaufen

ULVAC SH-450H-C10
Hersteller
ULVAC
Modell
SH-450H-C10
ID: 9313937
Weinlese: 2000
Sputtering system 2000 vintage.
ULVAC SH-450H-C10 ist ein DC-Magnetron-Sputtergerät, mit dem dünne Filme aus verschiedenen Materialien erzeugt werden können. Es ist eine Dreiwaffe, Doppelkammer-Gerät und verfügt über eine robuste Stromversorgung. Das Gerät ist hochautomatisiert und verfügt über eine erweiterte Benutzeroberfläche, mit der der Bediener problemlos Sputterparameter auswählen und ändern kann. SH-450H-C10 verfügt über eine Hochvakuumkammer, die einen Betriebsdruck von 6x10̄³ zu 4x10̄⁸ Pa. aufrechterhalten kann. Es wird durch eine robuste Stromversorgung von entweder 2,5 oder 4 kW angetrieben, mit der Option, die Leistung auf 6 kW zu verlängern, was eine schnelle Sputterabscheidung ermöglicht. Es verfügt über eine große Sputterstrahlkammer für eine Vielzahl von Zielmaterialien, mit drei 6 "EUV-Targets. Die Kammer ist auch mit einem 4 "Wafer kompatiblen Glockenglas ausgestattet. ULVAC SH-450H-C10 verfügt über zwei optische Systeme mit quadratischen Öffnungen. Der erste ist ein elliptischer Kollektor mit einem inneren Schlitz, während der andere ein Quarz Crystal Monitor ist, der eine Echtzeitüberwachung des Prozessparameters und die Qualitätssicherung ermöglicht. Die Maschine verfügt außerdem über ein integriertes kryogenes Kühlwerkzeug, um einen stabilen Prozess zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt SH-450H-C10 über einen Drei-Kanonen-Mechanismus. Von den drei Kanonen hat die Central Apex Gun Asset einen geschlitzten Ring Magnetrons, während die anderen beiden Kanonen Membran flache Magnetrons haben. Das Modell bietet auch eine breite Palette von reaktiven Gassputtern mit Hochvakuum Enteralgaseinspritzung oder Niederdruckgasabdeckung. Insgesamt ist ULVAC SH-450H-C10 eine leistungsstarke und vielseitige Ausrüstung für DC-Magnetsputteranwendungen wie die Abscheidung von dünnen Schichten aus leitfähigen, halbleitenden und dielektrischen Materialien. Es bietet eine Kombination aus hohen Abscheidungsraten, geringer Kontamination, gutem Durchsatz und kleiner Partikelerzeugung und ist somit eine ideale Wahl für die Abscheidung von Materialien in einer Vielzahl von Bereichen wie Elektronik, Optik, Nanowissenschaft und Technik.
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