Gebraucht ULVAC SIV-500 #9382251 zu verkaufen

ULVAC SIV-500 ist ein Sputtergerät, das verwendet wird, um einen dünnen Film auf der Oberfläche eines Substrats zu erzeugen, wie zum Beispiel einen Computerchip. Dieses Sputtersystem verwendet ein seltenes Gas, typischerweise Argon, als Quelle für die Abscheidung von Material auf dem Substrat. Mit Hochspannung werden die Argonionen zur Substratoberfläche hin beschleunigt, von der Deckschicht des Substrats weggeschlagen und abgeschieden. Mit diesem Verfahren lassen sich zwei flache Platten erzeugen, die durch einen dünnen Film verbunden sind, was für die Herstellung von Computerchips von Vorteil ist. SIV-500 verfügt über eine 500mm-mal-420mm Vakuumkammer mit einem Innenvolumen von rund 850 Litern. Es ist mit insgesamt vier Sputterquellen (drei Magnetrons und eine Gleichspannungsebene) ausgestattet, die auf einer XYZ-Bühne um das Substrat bewegt werden können. Es besitzt die Fähigkeit zum Niedertemperatursputtern und Vorsputtern, wodurch unterschiedliche Dichten der Folien über der Substratoberfläche erzeugt werden können. Das Gerät wird auch mit einem Darstellungsbereich und einer Anzeigesoftware geliefert, um den Sputtervorgang zu überwachen. ULVAC SIV-500 ist auch mit einem Lade- und Entladeverschlussmodul zum Be- und Entladen von Substraten bis 8 Zoll Durchmesser ausgestattet. Es kann nasse Prozesskassetten bis zu 5 kg Gewicht handhaben und kann bis zu drei Substrate gleichzeitig beladen. Es kommt mit einem eingebauten Substratkühler, um die Temperatur des Substrats zu senken, und es gibt auch eine orthogonale Kamera, um den Abscheidungsprozess in Echtzeit zu überprüfen. SIV-500 ist in der Lage, dünne Filme zwischen 10 Nanometern und einigen Mikrometern dick zu machen. ULVAC SIV-500 ist eine ideale Maschine für einen effizienten Sputterprozess. Es kann eine breite Palette von Substraten handhaben, die es ideal für verschiedene Anwendungen in der Halbleiter-, LED und Display-Industrie macht. Es verfügt über erweiterte Funktionen wie das Load-Lock/Unload-Lock-Tool, das einen hohen Durchsatz bietet, sowie die Echtzeit-Prozessüberwachungsfunktionen, die sicherstellen, dass jeder Abscheideprozess optimal läuft. All diese Merkmale, zusammen mit dem modularen Aufbau von SIV-500, machen es zum idealen Vorteil für das Sputtern von dünnen Filmen.