Gebraucht ULVAC SIV-500F #9269095 zu verkaufen
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ID: 9269095
Sputtering system
UL/CH:
Vacuum chamber: AI Chamber
Accessories:
Door grip opening mechanism
(2) Carrier sensors
Door sensor
O-Ring
Isolation valve (Between vacuum and vacuum)
Transfer system:
Carrier transfer mechanism
Carrier 2-stage exchange system
Measurements system:
ULVAC SW-1 Pirani vacuum gauge
SMC ZSE80F-A2L-R-M Atmospheric pressure switch
Vacuum pumping system:
Rotary pump
ULVAC VLP-U3SW Roughing valve
SMC XLG-50-M9NA-X62 Vent valve
Piping
Chamber B:
Vacuum chamber: AI Chamber
Accessories:
Door grip opening mechanism
(2) Carrier sensor
Door sensor
O-Ring
Isolation valve (Between vacuum and vacuum)
Transfer system:
Carrier transfer mechanism
Carrier 2-stage exchange system
Substrate heating system:
Heating mechanism
Heater power supply
Temperature controller with overheating
Thermocouple
Measurements system:
ULVAC SPU Pirani vacuum gauge
SMC ZSE80F-A2L-R-M Atmospheric pressure switch
ULVAC SH2 Ionization vacuum gauge
Vacuum pumping system:
ULVAC CRY0-U12HSP Cryo pump
Main valve: No APC
Piping
Gas inlet system:
FUJIKIN FCST1005LUC-4J2-F200-AR MFC
Ar: 200 SCCM
Gas valve
SWAGELOK Type
Piping: Stainless steel
Etching chamber:
Vacuum chamber: AI Etching chamber
Accessories:
Door grip open mechanism
(2) Carrier sensors
Door sensor
O-Ring
Transfer system: Carrier transfer mechanism
RF Etching system: RF Etching unit
Cooling system: ESC Stage
Power supply system:
ADTEC TX30-DOOO-10 RF Power supply, 3 kW
ADTEC AMVG-3000-NC Match box, 3 kW
Rotation chamber:
Vacuum chamber: Rotation chamber: Fe and Plated
Accessories:
(4) Carrier sensors
O-Ring
Transfer system:
Carrier transfer mechanism
Carrier rotation mechanism
Vacuum pumping system:
U12HSP Cryo pump
Vacuum piping
Main valve: No APC
Measurement system:
ULVAC SPU Pirani vacuum gauge
SMC ZSE80F-A2L-R-M Atmospheric pressure switch
ULVAC SH2 Ionization vacuum gauge
Gas inlet system:
FUJIKIN FCST1005LUC-4J2-F200-AR MFC
Ar: 200 sccm
Gas valve
SWAGELOK Type
Piping: Stainless steel
Sputtering chamber (Ti):
Vacuum chamber: AI Sputter chamber
Accessories:
Door grip open mechanism
(2) Carrier sensors
Door sensor
O-Ring
Transfer system: Carrier transfer mechanism
Cathodes system: Magnetron cathode unit
Stage system: RF Bias Stage
Power supply system:
ADVANCED ENERGY Pinnacle DC Power supply, 20 kW
ADTEC TX30-DOOO-10 RF Power supply, 3 kW
ADTEC AMVG-3000-NC Match box, 3 kW
Sputtering chamber (Cu):
Vacuum chamber: AI Sputter chamber
Accessories:
Door grip open mechanism
(2) Carrier sensors
Door sensor
O-Ring
Transfer system: Carrier transfer mechanism
Cathode system: Magnetron cathode unit
(2) ADVANCED ENERGY Pinnacle 20 DC power supplies, 40 kW
Compressed dry air system:
Filter regulator unit
Solenoid valve unit
Piping
Speed controller
Cooling water system:
Water supply and return header manifold
Cooling water piping
Pressure switch
Flow meter
Structure frame system:
SS400 Frame
Panel.
ULVAC SIV-500F ist ein fortschrittliches, leistungsstarkes Sputtersystem, das sowohl für Anwendungen in der Leistungselektronik als auch in der Dünnschichttechnologie entwickelt wurde. Diese hochautomatisierte Plattform verfügt über integrierte optische, elektrische und Plasma-Diagnostik, um eine wiederholbare, qualitativ hochwertige Ergebnisbewegung nach der Bewegung zu gewährleisten. Seine grundlegenden Komponenten sind eine leicht zugängliche Prozesskammer und eine integrierte Beamline. Die schwere, wassergekühlte Prozesskammer ist aus Edelstahl gefertigt und für 200 mT atm-ccn Betrieb zertifiziert. Die Kammer kann neben einem abgewinkelten Zielhalter bis zu 15 Substratscheiben aufnehmen und verfügt über einen integrierten Lenkmagneten und Faraday-Schild zur feldfreien, hochpräzisen Sputterabscheidung. Die integrierte Strahllinie enthält zwei Elektronenbeschussquellen für nicht-reaktive Ätz- und Vorabscheidungsoberflächenbehandlungen. Ausgestattet mit fortschrittlicher Steuerungssoftware ist SIV-500F einfach zu bedienen. Es kann schnell und einfach programmiert werden, um eine breite Palette von Sputterrezepten durchzuführen, so dass Benutzer Ergebnisse für eine einfache Prozessoptimierung genau replizieren können. Darüber hinaus können alle Parameter und Ergebnisse gespeichert und für eine spätere Studie zurückgerufen werden. Der zuverlässige, schnelle und quellübergreifende Sputterprozess macht ULVAC SIV-500F zu einer idealen Wahl für die Dünnschichtherstellung. Seine fortschrittliche Stromversorgungstechnologie ermöglicht hohe Ströme, niedrige Lichtbogen und schnelle Rampenzeiten. Darüber hinaus können seine Sputterquellen unabhängig voneinander gesteuert werden und bieten eine unübertroffene Prozessflexibilität. Diese Flexibilität kann durch einstellbare Eingangsleistung, Betriebsfrequenz und Prozessgasströme weiter verbessert werden. Zur Erhöhung der Sicherheit verfügt SIV-500F über erweiterte Sicherheitsfunktionen wie Gaslecksuche, automatische Abschaltung und einen Notverriegelungsschalter. Darüber hinaus ist es mit benutzerfreundlichen Türschlössern, einem großen Sichtfenster und einer Überkopfbeleuchtung ausgelegt. Um den Durchsatz zu maximieren, bietet ULVAC SIV-500F auch erweiterte Diagnosetools an, mit denen Anwender alle Prozessparameter in Echtzeit überwachen können. Um die Dünnschichtherstellung weiter zu verbessern, wird das System auch mit dedizierter Hardware und Software für die Temperatur- und Druckregelung sowie automatisierten Systemen für das Wafer-Handling und Fördersystemen für eine verbesserte Effizienz geliefert. Insgesamt kombiniert SIV-500F Robustheit, Zuverlässigkeit und erhöhte Sicherheit, um das perfekte Sputterwerkzeug für Industrie- und Forschungsanwendungen zu schaffen. Mit integrierter Diagnose, einfacher Bedienung und fortschrittlichen Funktionen ist ULVAC SIV-500F die perfekte Wahl für hochwertige Dünnschichten.
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