Gebraucht ULVAC SMD-450 #9269729 zu verkaufen

ULVAC SMD-450 ist eine hochentwickelte Sputteranlage für den Einsatz in Dünnschichtabscheidungsprozessen. Es ist in der Lage, eine breite Palette von dünnen Filmen auf eine unglaublich effiziente Weise zu produzieren, dank seiner vielen fortschrittlichen Funktionen und Komponenten. Das System nutzt eine ultra-hohe Vakuumkammer, die Druckniveaus von bis zu 10-5 Pa. aufrechterhalten kann. Dies ermöglicht es, Sputterraten von bis zu 1,5 nm/s zu erreichen. SMD-450 ist eine zweistufige, modulare Einheit, die es dem Benutzer ermöglicht, verschiedene Sputterquellen (einschließlich DC, gepulste und gefilterte kathodische Bogenquellen) zu kombinieren, um die gewünschten Ergebnisse zu erzielen. Die Maschine ist in der Lage, nieder- bis hochviskose Materialien zu zerstäuben, darunter amorphe und polykristalline Metalle, Keramiken, Verbundwerkstoffe und dielektrische Materialien. Es ist auch in der Lage, Verbindungen zu sputtern, was in vielen Dünnschicht-Solarzellen-Anwendungen von besonderer Bedeutung ist. Das Werkzeug ist so ausgelegt, dass das Sputtern mit verschiedenen Verbindungen in einem individuellen Lauf erreicht werden kann, was eine hohe Prozesseffizienz ermöglicht. Darüber hinaus verfügt die Anlage über hervorragende Substratvorspannungs-, HF- und Plasmareinigungsfunktionen. Dies ermöglicht es dem Anwender, dünne Filme von besserer Qualität mit engerer Oberflächenmorphologie und höheren Dichten zu erhalten. Die Gleichmäßigkeit der Folien wird auch durch die ECR (induced arc discharge) -Quellentechnologie erhöht, die hilft, den Substratbereich zu bestimmen, in dem Sputtern stattfinden soll, wodurch gleichmäßige und homogene Abscheidungseigenschaften gewährleistet sind. Die dichte Abscheiderate von bis zu 8 nm/min, zusammen mit seiner Fähigkeit, eine Vielzahl von Materialien abzulegen, machen ULVAC SMD-450 ein wertvolles Werkzeug für die Dünnschichtherstellung. Die Flexibilität, Qualität und Gesamteffizienz des Modells machen es gut geeignet für den Einsatz in elektronischen Anwendungen wie Festplatten- und Tunnelmagnetowiderstand (TMR) Kopfproduktion, sowie für optische Anwendungen wie Antireflective (ARD) und Transparent Conducting Oxide (TCO) Produktion. Darüber hinaus bedeutet sein höherer Durchsatz und seine hohe Viskosität Prozessverträglichkeit, dass es für Digital Mirror Device (DMD) Produktion verwendet werden kann.