Gebraucht ULVAC SMD-450 #9269742 zu verkaufen

ULVAC SMD-450 Sputtergeräte sind ein hochmodernes Werkzeug für abgeschiedene dünne Filme auf Wafern und Substraten. Dieses Sputtersystem integriert die neueste energetische und einheitliche Sputtertechnologie und ist damit eine ideale Wahl für Forschung und industrielle Anwendungen. SMD-450 ist mit zwei Kathoden ausgestattet, die gleichzeitig die Abscheidung von zwei getrennten Schichten auf der Probe ermöglichen. Es verfügt über eine zweistufige lineare Quellenstruktur für maximales Ionenbeschuss, erhöhte Gleichmäßigkeit und verringerte Ionenkanalisierung. Diese erweiterte Einheit kann auch mit beliebigen Zielmaterialien wie Metallen, Oxiden, Nitriden, Halbleitern und anderen konfiguriert werden. Beim herkömmlichen Magnetron- und Inertgassputtern wird die Substrattemperatur nicht geregelt. Dies bewirkt unterschiedliche Filmdicken über verschiedene Teile der Probe. ULVAC SMD-450 verfügt über einen fortschrittlichen temperaturgesteuerten Substrathalter, der es Anwendern ermöglicht, die Substrattemperatur bis zu 400 ° C zu steuern. Dadurch wird die durch thermische Drift bedingte Ungleichmäßigkeit eliminiert. SMD-450 verfügt zudem über eine kompakte Stellfläche und ist für eine effiziente Raumnutzung ausgelegt. Es verfügt über insgesamt vier Kammern für bis zu 10 Ziele, während sein Zielanschluss mit großer Kapazität schnelle Ladevorgänge ermöglicht. Um Wartungszeit und Kosten zu reduzieren, verfügt es über eine zweistufige Kühlmaschine, die Wasser und Staub einfängt. Dieses Sputterwerkzeug unterstützt eine Vielzahl von hochpräzisen Plasmasteuerungssystemen, um ein gleichmäßiges und gleichmäßiges Sputterprofil bereitzustellen. Es bietet auch ein hohes Maß an Prozesskontrolle über Parameter wie Tastverhältnis, Druck und Gasfluss. Dieses Werkzeug kann eine Vielzahl von Proben und Substraten behandeln, darunter unregelmäßig geformte Gegenstände und Abschnitte, sowie kleine Geräte und Strukturen. Die fortschrittliche ULVAC SMD-450 Sputteranlage bietet unübertroffene Kontrolle, Zuverlässigkeit, Einheitlichkeit und Produktivität. Es ist die ideale Wahl für die Herstellung von Dünnschichtschichten auf zahlreichen Arten von Substraten und Proben.